常见的PVD装饰膜主要有几大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一种黄金和铜的合金，由于其具有非常时尚、靓丽的玫瑰红色彩，因而普遍用于首饰设计和加工。又称粉色金（pink gold）、红色金（red gold）。 2. IP金，用离子镀膜的方式，让靶材上的黄金沉积到要镀的工件之上，一般由仿金层和表面金层两层，表面金层的颜色与24K黄金一样，厚度可以根据客户的要求镀不同的厚度。 3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黄金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物组成，但很难达到真金的亮度。 4. 银色系列，一般是铬的化合物，颜色深浅可调整，可分冷色系列和暖色系列，冷色系列带蓝调，金属光感好，暖色系列带黄调，接近不锈钢本色。 5. 黑色系列，一般是成份是金属的碳化物，颜色深浅可以调整，色调根据客户的要求也可以调整，不同的金属碳化物具有不同的特性和色调，可以根据客户的需要选择不同的膜系。 6. 蓝色系列，有天空蓝，冰蓝色，海洋蓝，深蓝等等，不同色系成份也有所不一样。
溅射过程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质。氟化钡靶材绑定
磁控靶材面积与承载功率范围 1、靶材面积与承载功率范围 (1) 圆形平面磁控靶功率密度范围一般为1~25瓦/cm2。 (2)矩形平面磁控靶功率密度范围一般为1~36瓦/cm2。 (3)柱状磁控靶、锥形平面磁控靶功率密度范围一般为40~50瓦/cm2。 2、磁控靶实际承载功率 磁控靶的实际的承载功率除了与溅射工艺、薄膜的质量要求等因数有关外，主要与靶的冷却状况和散热条件密切相关。磁控靶按其冷却散热方式的不同，分为“靶材直接水冷却”和“靶材间接水冷却”两种。 考虑到溅射靶长期使用老化后，其散热条件变差;兼顾各种不同靶材材质的散热系数的不同，磁控靶的使用时的承载功率，直接水冷却靶实际的承载大功率可按略小于功率密度范围的上限选取;间接水冷却靶的实际承载大功率可按功率密度范围上限值的二分之一左右选取。 磁控靶材(主要是Cu，Ag，黄铜(Brass)和Al青铜(Al bronze) “自溅射”时，一般是选用经过专门设计“靶材直接水冷却”的磁控溅射靶。其使用时的承载功率，均需大于靶功率密度范围的上限值(即>100W/cm2以上)。氟化钡靶材绑定纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。
作为本发明 的技术方案，所述靶材的材质包括铝、钽、钛或铜中的一种。作为本发明 的技术方案，所述背板的材质包括铜和/或铝。作为本发明 的技术方案，所述靶材表面的比较高点和比较低点的垂直距离为5.75-6mm；所述靶材表面的硬度为20-30hv；其中，所述靶材的比较大厚度为20-30mm；所述靶材组件还包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形结构；所述靶材包括用于溅射的溅射面；所述溅射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面与水平面的夹角≤10°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之间；所述***平面为圆形；所述第二平面为环形；所述靶材的材质包括铝、钽、钛或铜中的一种；所述背板的材质包括铜和/或铝。与现有技术方案相比，本发明具有以下有益效果：本发明中，通过调整靶材表面的高度差及硬度，利用二者之间的协同效果保证溅射强度，使得溅射过程中薄膜厚度均匀，使用寿命增加。
真空镀膜中靶材中毒会出现哪些想象，如何解决？靶面金属化合物的形成。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则，该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导，所以，化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。靶中毒的影响因素：影响靶中毒的因素主要是反应气体和溅射气体的比例，反应气体过量就会导致靶中毒。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率，化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下，参与化合物生成的反应气体量增加，化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度，化合物覆盖面积增加，如果不能及时调整反应气体流量，化合物覆盖面积增加的速率得不到控制，溅射沟道将进一步被化合物覆盖，当溅射靶被化合物全部覆盖的时候，靶完全中毒，在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。换靶材后需要重新调功率匹配器的，只有功率匹配调好了才能正常起辉。
抛光片300包括抛光片部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330。所述抛光片部分310设置于所述顶板210的底部。所述抛光片第二部分320设置于所述顶板210与所述侧板220的拐角处，且在所述抛光片部分310及抛光片第三部分330间平滑的过渡。所述抛光片第三部分330设置于所述侧板220的内侧面上，所述抛光片第三部分330表面与抛光片部分310表面垂直。抛光片第二部分320呈弧状，与经圆角处理的靶材侧棱相匹配，可对靶材侧棱进行抛光。所述抛光片第三部分330表面为平整的平面，能够对靶材侧壁表面进行抛光。因此所述靶材抛光装置100能够同时对靶材侧壁表面及经圆角处理的侧棱进行抛光，有助于提高抛光作业效率。
对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快。山东V靶材
为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。氟化钡靶材绑定
靶材的杂质含量。在经过一系列的靶材工艺处理后靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。因为用处不一样，所以不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。比如现在的半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度也是靶材的关键性能指标之一.在靶材的技术工艺中为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，一般是要求靶材必须具有较高的密度。因为靶材主要特性密度对溅射速率有着很大的影响，并且影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。氟化钡靶材绑定
江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市，是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司，溅射靶材充分借鉴国外的先进技术，并通过与国内外**研发机构合作，整合各行业资源优势，生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属，合金，陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累，已经拥有：真空热压，冷压烧结，真空熔炼，热等静压，等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材：平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台，冷压烧结炉一台，真空熔炼设备两台，等静压设备一台，等离子喷涂两套，绑定平台两套，各类机加工设备七台，检验设备若干，确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承：“一切以客户的需求为导向，客户的所有需求一次做好。”的发展理念。