PVD技术常用的方法 PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子...
氧化物镀膜技术在真空镀铝膜中的应用 近年来,迅速发展微波加热技术给微波食品包装及需经微波杀 菌消毒的一类商品的包装提出了新的要求,...
钎焊:一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/cm2,钎料常用In、Sn、In-Sn;导电胶:采用的导电胶要耐高温,厚度在...
靶材的杂质含量。在经过一系列的靶材工艺处理后靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。因为用处不一样,所以不同用...
真空离子镀的耐腐蚀性: 金属零件是要锈蚀的,但如果零件上镀有一层防蚀镀层,就能防止零件生锈。由于离子镀所获得的镀层致密度高,...