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苏州砷靶材功能

来源: 发布时间:2022年05月12日

PECVD 制备氢化非晶硅薄膜   本实验采用单晶硅片为衬底,按石英玻璃基片的清洗步骤清洗后烘干,然后置于PECVD系统中。样品制备条件为衬底温度250℃,工作气压120 Pa, 射频功率100 W, 气体流量SiH4/H2=15/5 sccm, 沉积时间30min, 制备得到a- Si:H 薄膜样品。   (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度会随着溅射功率的增大而增大,膜的均匀性将会变差;   (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度随着衬底加热温度的增大而减小,非晶硅薄膜均匀性变好;   (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范围内,随着氩气气压的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微变大;   (4) 随着溅射时间的增加, 膜的厚度成非线性增加,沉积速率开始较快,之后逐渐减慢,膜的表面粗糙度逐渐变大;   (5)随着溅射气压的增大,沉积速率有所降低。


主要由三种方式:压接、钎焊和导电胶。苏州砷靶材功能

中频双靶反应磁控溅射与直流反应磁控溅射相比具有以下几个显巨优点:   (1)消除了靶面打弧放电现象,中频反应磁控溅射镀制的绝缘薄膜与直流反应磁控溅射镀制的同种膜相比,膜面缺 陷要少几个数量级;   (2)可以得到比直流反应磁控溅射高出数倍的溅射沉积速率;   (3)中频双靶反应磁控溅射的整个溅射沉积过程,可以始终稳定在所设定的工作点上,为大规模工业化稳定生产提供了条件。   选用非对称双极脉冲靶电源与选用“双靶-中频靶电源”不同,使用单个磁控靶进行反应磁控溅射,调节相应的镀膜工艺参数,可以消除磁控靶面打弧放电现象和实现长时间稳定的薄膜沉积,可以达到上述“中频-双靶反应磁控溅射”的同样效果。



成都氮化铝靶材作用正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡,堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电,使阴极溅射无法进行下去。

PVD颜色膜之玫瑰金 玫瑰金,单从她那浪漫的名字,就能引起人们无数美妙的联想。在闪闪发光的黄金饰品与经典高雅的铂金饰品之后,色调柔和迷人的玫瑰金饰品渐成为时尚人士的“新宠”,以她特有的风格与文化,演绎出贵金属饰品的又一片崭新天地。通常玫瑰金由75%的黄金与其它合金组成(俗称三色金)。 硬度较纯金高,与传统的黄金和铂金相比,粉红色的玫瑰金不但能使有色宝石的色彩更加浓重,还体现了金属材质的精致、细腻。其粉红、玫瑰等暖色调给人们带来温暖与愉快;在款式上也是千姿百态,有心形、榄尖形、椭圆形、梨形、祖母绿形。各种风格迥异的饰品,可谓璀璨耀眼,女性无论是着职业装,还是晚礼服及吊带裙,与之相配都显出高雅的气质。 玫瑰金颜色近几年在手表行业非常流行,很多品牌都采用PVD在不锈钢表壳和表带上沉积玫瑰金涂层的方式进行,行业内叫IP玫瑰金,其工艺已经非常成熟。玫瑰金镀层一般有仿金层和玫瑰金层构成,底层的仿金层一般为TiCN,主要是增加玫瑰金的硬度和耐磨度。


靶材600呈长方体状,其顶部表面为靶材溅射面610,底部表面为靶材焊接面620,所述靶材焊接面620贴合于背板表面上,所述靶材600通过所述靶材焊接面620与背板焊接固定。所述靶材600具有四个侧壁表面630。靶材600具有十二条侧棱601,各条侧棱601均经过圆角处理。在圆角处理前,所述靶材600的侧棱601位置较为锐利。如果使用侧棱未经圆角处理的靶材600进行溅射镀膜,在溅射镀膜工艺过程中,所述靶材600的侧棱601位置容易发生前列放电的现象,导致镀膜的均匀性差,影响镀膜质量。圆角处理使得靶材侧棱601钝化,有助于防止前列放电现象的发生。正离子堆积:靶中毒时,靶面形成一层绝缘膜。

锌锡合金,锌铝合金,锡镉合金,铜铟合金,铜铟镓合金,铜镓合金,以及锡,钼,钛等旋转靶材高纯铝靶材Al高纯铜靶材Cu高纯铁靶材Fe高纯钛靶材Ti高纯镍靶材Ni高纯镁靶材Mg高纯铬靶材Cr高纯锌靶材Zn高纯银靶材Ag高纯钴靶材Co高纯铌靶材Nb高纯锡靶材Sn高纯铟靶材In高纯锆靶材Zr高纯钽靶材Ta高纯锗靶材Ge高纯硅靶材Si高纯钨靶材W高纯铪靶材Hf高纯钇靶材Y高纯钆靶材Gd高纯钐靶材Sm高纯镝靶材Dy高纯铈靶材Ce高纯镧靶材La高纯金靶材Au高纯不锈钢靶材高纯石墨靶材C高纯硒靶材Se高纯钼靶材Mo高纯合金溅射靶材二元合金靶镍铬靶Ni-Cr镍铁靶Ni-Fe镍钴靶Ni-Co镍锆靶Ni-Zr镍铝靶Ni-Al镍铜靶Ni-Cu镍钒靶Ni-V铜铟靶Cu-In铜镓靶Cu-Ga铜硒靶Cu-Se钛铝靶Ti-Al铝硅靶Al-Si铝铜靶Al-Cu铝钛靶Al-Ti铝镁靶Al-Mg银铜靶Ag-Cu铁锰靶Fe-Mn铟锡靶In-Sn钴铁靶Co-Fe钨钛靶W-Ti锌铝靶Zn-Al铝钪靶Al-Sc铜锡靶Cu-Sn锆铝靶Zr-Al锆铁靶Zr-Fe锆硅靶Zr-Si钒铝靶V-Al硼铁靶B-Fe铝硅靶Al-Si硼铁靶B-Fe多元合金靶钴铁硼靶Co-Fe-B铜铟镓靶Cu-In-Ga铜铟镓硒靶Cu-In-Ga-Se等。旋转靶材用途编辑太阳能电池,建筑玻璃,汽车玻璃,半导体,平板电视等。由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中,化合物是在哪里形成的呢?安徽四元合金靶材

在直流脉冲、中频溅射过程中,离子撞击的能量不足以破坏氧化皮。苏州砷靶材功能

陶瓷靶材:ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、溅射靶材氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。苏州砷靶材功能

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