研磨抛光常见缺陷及应对措施---
1、划痕
划痕即是样品表面上的线性凹槽，是由研磨粒子造成的。
应对措施：
● 确定在粗磨后，试样座上所有样品的表面都均匀地布满同样的 磨痕花样；
● 必要时重新进行粗磨；
● 每一道步聚后均应仔细清洁样品和试样座，以去掉前一道工序中的大研磨粒子对磨/抛用具的干扰；
● 如果在现行的抛光工序后仍有前面工序留下的磨痕，请先增加 25~50%的制样时间。
2、褶皱
样品较大区域发生的塑性变形称为褶皱，当不恰当地使用研磨料、润滑剂或抛光布时，或者它们的搭配不合适，都将使研磨料象钝刀一样作用在作品表面，推挤表面，致使出现皱褶。
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精磨
细磨的目的是消除粗磨遗留下来的深而粗的磨痕，为抛光做准备。细磨本身包括多道操作，即在各号砂纸上从粗到细顺序进行。目前，主流的精磨方式为湿式机械精磨，细精磨时一般依次从W40号开始，逐一更换细一号的砂纸推磨，一般钢铁试样磨到W10号砂纸，软材料如铝、镁等合金可磨到W5号砂纸。每换下一号细砂纸时，应将磨面方向应旋转90°，以便观察上次磨痕是否磨掉。 在细磨较软的金相试样时，如铝、镁、铜等有色金属是应该在砂纸上涂一层润滑剂，可防止砂粒嵌入软金属材料内，同时减少表面撕损现象。
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1、注意热镶样品的几何尺寸及位置摆放
样品的几何尺寸及具**置摆放，以及样品之间的距离都会导致热镶嵌效果的差异。复杂形状的样品（如环状、锯齿形）相对于标准形状的样品，更容易出现填充不充分的情形，需适度提高镶嵌压力。如要在一个模具中镶嵌多个样品，则样品之间以及样品到模具边缘的距离需足够（至少需预留2-3mm），否则容易产生缝隙或裂纹。
2、选择合适硬度的镶嵌材料
如果需要实现足够的边缘保持，镶嵌树脂和试样的硬度应大致相当，这样才会有正常的过度区域。否则，若镶嵌树脂过软，会导致正浮凸现象，试样边缘会发生倒角；若树脂过硬，试样去除量更多，则导致负浮凸
符合平面研磨机加工工件的研磨液基本要求。
1、要求研磨液具有一定的粘度，保证磨料颗粒能够粘附在研磨工具表面，并且是均匀的分布，所选择的磨料越细，其研磨液的粘度会越高。
2、研磨液需要在加工中起到冷却以及润滑的作用。
3、在整个研磨设备加工中需要起到加速研磨的过程，提高研磨的加工效率。
4、在研磨加工中，需要研磨液没有腐蚀工件表面的效果。
5、研磨液要是天然的，没有化学作用，不会损伤皮肤、健康，容易清洁。其加工性能不能受到温度的影响。 金相研磨：金相制样中重要的一环。
化学抛光是一种将金相样品浸入调配的化学抛光液中，借化学药剂的溶解作用而得到的抛光表面的抛光方法。化学抛光是常见的金相样品抛光方法之一，这种方法操作简便，不需任何仪器设备，只需要选择适当的化学抛光液和掌握比较好的抛光规范，就能快速得到较理想的光洁而无变形层的表面。
基本原理：
金属试样表面各组成相的电化学电位不同，形成了许多微电势，在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜，试样表面凸出部分由于粘膜薄，金属的溶解扩展速度较慢，抛光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能达到十分理想的要求。在低和中等放大倍数下利用显微镜观察时，这种小的起伏一般在物镜垂直鉴别能力之内，仍能观察到十分清晰的组织。
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金相试件研磨方法：
1.将水磨砂纸浸湿，平放在研磨盘中。
2.打开左盘水开关，并调整好水流。
3.开电源开关，金相磨抛机研磨逆时针方向旋转。
4.将切割好的试样用力持住，并轻轻靠近砂纸，待试样和砂纸接触良好并无跳动时，可用力压住试样进行研磨。
5.力度大约在不使研磨面因摩擦过热而烧伤组织为佳（大约2kgf）。
二、金相试件抛光方法：
1、打开抛光机，打开水管，水流至砂纸2/3处，在100目的砂纸上进行抛磨，直至试件抛磨表面没有明显变化，更换至200目、400目、800目、1200目进行相同操作。
2、在1200目砂纸上操作完成后，将试件放到绒布上进行操作，操作如下：打开水管将绒布浸湿，用刷子将绒布表面清理，关闭水管，喷涂金相抛光膏0.5S，将试件金相抛光至镜面。
3、试件表面甩干，放置于金相显微镜上观察有无划痕，若有重新进行绒布抛光，若没有则进行第4步。
4、将抛光好的试件表面略倾，滴加4%硝酸酒精，旋转试件使液体在抛好的表面全部覆盖，试件表面发雾，持续2~3秒，用流水将硝酸酒精冲洗干净，用吹风机将试件表面吹干。
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