通过在覆铜芯板中设置容纳磁环的环形槽，有利于提高或扩展集成电路封装基板的电路功能，例如能够通过对沿磁环内外分布的过孔进行绕制连接以将微变压器集成在集成电路基板内。本发明具有的特点：通过实施本发明，能够在集成电路有机基板本体内采用埋磁技术预制一只或多只磁环，通过激光过孔技术实现变压器，并且电感量和耦合系数都非常高，有利于电源的功率输出和效率。再采用SIP工艺集成Die和分离器件来多种表面处理方式以方便引线键合,倒装芯片或混合类型连接，完成整体功能，如隔离电源，隔离信号传输等电路功能。通过采用印制线及激光精确打过孔方式实现变压器线圈的绕制，代替了人工绕制的困难，特别是直径比较小的磁环变压器，不支持机器绕制，只能人工费时绕制。本发明克服了绕制线圈的非一致性，离散性；方便出引脚，SMT焊接机械对位和一致性；人工绕制的变压器还得有底托，并且引脚必须有寄托，还有就是SMT焊接不能吸取(由于磁环中空)。本发明节约了成本，与纯铜漆包线绕制，整体节约50％成本。本发明由于将微变压器内置于绝缘体内，没有空气爬电距离的路径，在很小的空间内实现了高耐压初次级要达到。附图说明图1是实施本发明一种集成电路基板的结构示意图。电子料回收，请选择上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选，有需要可以联系我司哦！上海电子料高价回收市场
具备以下有益效果：该组合式集成电路芯片，通过设置有空心导热块、空心散热块和第二空心散热块，当芯片本体与集尘电路板安装的时候，首先把l形杆插入螺纹块的凹槽中，接着通过螺母与螺纹块连接，达到固定散热机构的目的，之后打开管盖，并通过导管向空心导热块内加注部分纯净水，接着盖上管盖，在芯片本体工作散发热量的时候，热量被空心导热块吸收，同时空心导热块内部的纯净水受热蒸发，并通过连通管和第二连接管进入到空心散热块和第二散热块中，利用空心散热块和第二空心散热块较大的散热面积快速的把热量导出，然后水蒸汽凝结成水珠，水珠回到空心导热块中继续吸收热量，该结构能够有效提高芯片的散热效率，同时提高了芯片运行的流畅性，以及避免芯片因高温而损伤，提高了芯片的使用寿命。该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本实用新型能够有效提高芯片的散热效率，同时提高了芯片运行的流畅性，以及避免芯片因高温而损伤，提高了芯片的使用寿命。附图说明图1为本实用新型提出的一种组合式集成电路芯片的结构示意图；图2为本实用新型提出的一种组合式集成电路芯片a部分的结构示意图。青海电子元器件回收量大从优上海海谷电子有限公司为您提供电子料回收，欢迎您的来电哦！
第二侧壁间隔件271至282在方向x上具有节距p5、p6和p7以及宽度w4。根据侧壁间隔件261至266的宽度w3以及第二侧壁间隔件271至282的宽度w4确定节距p5、p6和p7。在一些实施例中，第二侧壁间隔件271至282的平均节距被减小到抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的1/4平均节距。在一些示例实施例中，如参照图4g、图4h和图4i所述，可以使用侧壁间隔件261至266作为心轴图案在与侧壁间隔件261至266相同的层中形成第二侧壁间隔件271至282。在一些示例实施例中，即使图中未示出，也可以在下层中印刷侧壁间隔件261至266，也可以使用印刷图案作为心轴图案在比侧壁间隔件261至266低的层中形成第二侧壁间隔件271至282。根据所使用的工艺步骤的数量，获得不同的节距值(特征分辨率或者特征分隔距离)。在单图案化或者直接图案化的情况下，可以使用抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3形成与抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3具有相同的平均节距的目标图案。在sadp的情况下，可以使用心轴图案231、232和233在比抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3低的层中形成具有抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的1/2平均节距的目标图案。在saqp的情况下。
调节mtj器件、第二调节mtj器件和工作mtj器件106分别包括mtj，mtj具有通过介电遂穿阻挡层与自由层分隔开的固定层。在一些实施例中，固定层110可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)、镍(ni)、钌(ru)、铱(ir)、铂(pt)等。在一些实施例中，介电遂穿阻挡层可以包括氧化镁(mgo)、氧化铝(al2o3)等。在一些实施例中，自由层可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)等。在其它实施例中，调节访问装置108可以包括一个或多个电阻器(例如，包括氮化钽、钽、氮化钛、钛、钨等的薄膜电阻器)。例如，在一些实施例中，调节访问装置108可以包括与工作mtj器件106并联连接的薄膜电阻器和第二薄膜电阻器。在各个实施例中，调节访问装置108可以包括具有基本类似的尺寸或具有不同的尺寸的电阻器。存储器阵列102通过多条位线bl1至bl2和多条字线wl1至wl2连接至控制电路115。在一些实施例中，控制电路115包括连接至多条位线bl1至bl2的位线解码器116和连接至多条字线wl1至wl2的字线解码器118。调节访问装置108连接在字线wlx(x＝1或2)和工作mtj器件106之间，而工作mtj器件106连接在调节访问装置108和位线bly(y＝1或2)之间。为了访问工作mtj器件106。上海海谷电子有限公司电子料回收获得众多用户的认可。
工作mtj器件通过设置在衬底上方的介电结构与调节mtj器件横向分隔开。在一些实施例中，集成芯片还包括布置在位于工作mtj器件正上方的存储单元内的第二工作mtj器件，第二工作mtj器件被配置为存储第二数据状态。在一些实施例中，工作mtj器件通过不延伸穿过衬底的连续导电路径连接在位线和字线之间。在其它实施例中，本发明涉及集成电路。集成电路包括布置在衬底上方的介电结构内的互连层，互连层通过介电结构与衬底分隔开；以及调节mtj器件，布置在互连层正上方并且被配置为存储数据状态，工作mtj器件通过包括多个互连层并且不延伸穿过衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。在一些实施例中，集成电路还包括调节访问装置，其具有连接在字线和工作mtj器件之间的调节mtj器件，调节mtj器件具有通过介电阻挡层与自由层分隔开的固定层。在一些实施例中，互连层从工作mtj器件正下方连续延伸至调节mtj器件正下方。在一些实施例中，集成电路还包括连接在第二字线和工作mtj器件之间的第二调节mtj器件，字线和第二字线连接至字线解码器。在一些实施例中，调节mtj器件与第二调节mtj器件具有不同的尺寸。在一些实施例中。电子料回收，请选择上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选。山东批量电子物料回收网
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可以在多个mtj器件106、204和206上方沉积第二ild层1102，并且然后选择性地图案化第二ild层1102以限定顶电极通孔开口。然后通过沉积工艺在顶电极通孔开口内形成多个顶电极通孔410。在各个实施例中，第二ild层1102可以包括一种或多种介电材料，诸如二氧化硅(sio2)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如，硼磷硅酸盐玻璃)等。在各个实施例中，多个顶电极通孔410可以包括导电材料，诸如钛、氮化钛、钽等。在多个mtj器件106、204和206上方的第三ild层1104内形成第二互连层406b。在一些实施例中，第二互连层406b包括限定存储单元202a,1的位线bl1和一条或多条字线wl1至wl2的多个互连结构。在一些实施例中，第三ild层1104可以包括通过一个或多个沉积工艺(例如，pvd、cvd、pe-cvd等)形成的电介质(例如，氧化物、低k电介质或k电介质)。可以通过选择性地蚀刻第三ild层1104以在第三ild层1104内形成开口来形成第二互连层406b。然后在开口内沉积导电材料(例如，铜和/或铝)，以及随后的平坦化工艺(例如，化学机械平坦化工艺)以形成第二互连层406b。如图12的截面图1200所示，可以在存储单元202a,1上方形成第二存储单元202b,1。第二存储单元202b。上海电子料高价回收市场
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