以及基于该经学习电压，产生经配置以调整回转率的预测。在一些实施例中，该实际电压的微分决定一信号的实际回转率，并且该预设电压的微分决定该信号的预设回转率。在一些实施例中，该经学习电压包括一神经网络的一经加权值。在一些实施例中，该测量电路包括一取样保持电路以及一第二取样保持电路。该取样保持电路经配置以取样一信号的一电压。该第二取样保持电路经配置以取样该信号的一第二电压，其中该实际电压与该电压和该第二电压相关。在一些实施例中，该测量电路还包括一减法器电路。该减法器电路经配置以通过从该第二电压中减去该电压来提供该实际电压。在一些实施例中，该不成熟分类与该参考分类之间的一区别与一神经网络的一权重相关联，并且该经学习电压包括该神经网络的一经加权值。在一些实施例中，该分类器电路还包括一乘法器。该乘法器经配置以通过将该预设电压乘以一经更新权重来产生该经学习电压，其中该经更新权重与一预设权重相关联。在一些实施例中，该经更新权重与该区别和该预设权重之间的代数关系相关联。本公开还提供一种集成电路元件。该集成电路元件包括一比较器以及一减法器电路。该比较器包括一输入端耦合到一实际电压。电子料回收哪家好，请选择上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选！福建电子物料回收中心
根据示例实施例的集成电路以及制造和设计所述集成电路的方法可以通过单元线路结构提高集成电路的设计效率和性能。实施例可以应用于任何电子装置和系统。例如，实施例可以应用于诸如存储器卡、固态驱动器(ssd)、嵌入式多媒体卡(emmc)、移动电话、智能电话、个人数字助理(pda)、便携式多媒体播放器(pmp)、数码相机、便携式摄像机、个人计算机(pc)、服务器计算机、工作站、膝上型计算机、数字tv、机顶盒、便携式、导航系统、可穿戴装置、物联网(iot)装置、万物网(ioe)装置、电子书、虚拟现实(vr)装置、增强现实(ar)装置等的系统。前述内容是对示例实施例的说明，而不应被解释为对其进行限制。尽管已经描述了一些示例实施例，但是本领域技术人员将容易理解，在实质上不脱离本发明构思的情况下，可以在示例实施例中进行许多修改。甘肃电子元件物料回收行情上海海谷电子有限公司致力于提供电子料回收，期待您的来电咨询！
化学机械平坦化工艺)以形成互连层406a。在各个实施例中，衬底402可以是任何类型的半导体主体(例如，硅、sige、soi等)，诸如半导体晶圆和/或晶圆上的一个或多个管芯，以及任何与其相关的其它类型的半导体和/或外延层。在一些实施例中，ild层904可以包括一种或多种介电材料，诸如二氧化硅(sio2)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如，硼磷硅酸盐玻璃)等。在一些实施例中，导电材料可以包括通过沉积工艺(例如，cvd、pvd、pe-cvd、ald等)形成的金属(例如，钨、铝等)。在各个实施例中，互连层406a可以是互连线层、第二互连层、第三互连线层或更高金属互连线层。如图10的截面图1000所示，在互连层406a的上表面上方形成多个底电极通孔408。多个底电极通孔408由介电层1002围绕。在一些实施例中，介电层1002可以沉积在互连层406a上方，并且然后选择性地被图案化以限定底电极通孔开口。然后通过在底电极通孔开口内的沉积工艺形成多个底电极通孔408。在各个实施例中，介电层1002可以包括碳化硅、富硅氧化物、teos(正硅酸乙酯)等的一种或多种。在各个实施例中，多个底电极通孔408可以包括导电材料，诸如钛、氮化钛、钽等。在多个底电极通孔408上方形成多个mtj器件106、204和206。
公开的写入操作可以在调节mtj器件(例如，图2中的204至206)处于高电阻状态来实施，以在选择和未选择的单元之间提供隔离。如图3a的示意图300所示，写入操作的步骤通过将数据状态写入存储器阵列102的行301中的存储单元202a,1和第三存储单元202a,3内的工作mtj器件来实施。通过将非零偏置电压v1(例如，2v)施加至字线wl1和wl2，将第二非零偏置电压v2(例如，6v)施加至字线wl3，将第三非零偏置电压v3(例如，8v)施加至位线bl1和bl3，并且将第四非零偏置电压v4(例如，4v)施加至位线bl2来实施写入操作的步骤。非零偏置电压v1(例如，2v)和第三非零偏置电压v3(例如，8v)之间的差异使得电流i1流过存储单元202a,1和第三存储单元202a,3内的调节mtj器件。电流i1小于切换电流isw，使得存储单元202a,1和第三存储单元202a,3内的调节mtj器件的状态不变。然而，来自调节mtj器件的电流加在一起，使得为电流i1的两倍的电流流过存储单元202a,1和第三存储单元202a,3内的工作mtj器件。电流i1的两倍的电流大于切换电流isw，以将数据状态写入存储单元202a,1和第三存储单元202a,3内的工作mtj器件。第二存储单元202a,2内的工作mtj器件不受写入操作的步骤的影响，因为非零偏置电压v1(例如。上海海谷电子有限公司为您提供电子料回收，有想法的不要错过哦！
1至202c,3分别包括被配置为存储数据的工作mtj器件106和通过调节提供给工作mtj器件106的电流而选择性地对工作mtj器件106提供访问的调节访问装置108。在一些实施例中，调节访问装置108包括连接至工作mtj器件106的同一层的调节mtj器件204和第二调节mtj器件206。例如，调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以都连接至工作mtj器件106的固定层110。在一些实施例中，调节mtj器件204连接在工作mtj器件106和字线wlx之间(x＝1,3,5)，并且第二调节mtj器件206连接在工作mtj器件106和第二字线wly(y＝2,4,6)之间。例如，在存储单元202a,1中，调节mtj器件204连接在工作mtj器件106和字线wl1之间，而第二调节mtj器件206连接在工作mtj器件106和字线wl2之间。调节mtj器件204、第二调节mtj器件206和工作mtj器件106分别包括mtj，mtj具有通过介电遂穿阻挡层112与自由层114分隔开的固定层110。在一些实施例中，固定层110可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)、镍(ni)、钌(ru)、铱(ir)、铂(pt)等。在一些实施例中，介电遂穿阻挡层112可以包括氧化镁(mgo)、氧化铝(al2o3)等。在一些实施例中，自由层114可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)等。在操作期间。上海海谷电子有限公司致力于提供电子料回收，欢迎您的来电！福建电子物料回收中心
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ge)等的半导体或者例如sige、sic、gaas、inas、inp等的化合物半导体。在一些示例实施例中，基底110可以具有绝缘体上硅(soi)结构。基底110可以包括导电区域，例如，掺杂杂质的阱或掺杂杂质的结构。标准单元可以包括器件区rx1、第二器件区rx2以及使器件区rx1和第二器件区rx2沿第二方向y分离的有源切口区acr。器件区rx1和第二器件区rx2中的每个可以包括从基底110沿第三方向z突出的多个鳍型有源区ac(参见图12c)。多个有源区ac可以在方向x上彼此平行地延伸。器件隔离层112可以沿着第二方向y在基底110上位于多个有源区ac之间。多个有源区ac以鳍的形式沿着第三方向z从器件隔离层112突出。多个栅极绝缘层118和多条栅极线pc11、12、13、14、15和16可以形成在基底110上。栅极线pc11、12、13、14、15和16可以在与多个有源区ac交叉的第二方向y上延伸。多个栅极绝缘层118和多条栅极线pc11、12、13、14、15和16可以覆盖每个有源区ac的上表面和侧壁以及器件隔离层112的上表面。多个金属氧化物半导体(mos)晶体管可以沿着多条栅极线pc11、12、13、14、15和16形成。mos晶体管可以具有在有源区ac的上表面和两个侧壁中形成沟道的三维结构。图11提供了图例：“pc”表示栅极线，“ca”表示接触件。福建电子物料回收中心
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