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来源: 发布时间:2022年05月22日

字线解码器118被配置为选择性地将信号施加至连接至存储器阵列102的一条或多条字线wl1至wl6,并且位线解码器116被配置成选择性地将信号施加至连接至存储器阵列102的一条或多条位线bl1至bl3。通过选择性地将信号施加至一条或多条字线wl1至wl6和一条或多条位线bl1至bl3,可以在相互排斥的情况下选择性地访问多个工作mtj器件106中的不同工作mtj器件106。例如,图3a至图3b示出了图2的存储器电路200的写入操作的一些实施例的示意图300和302。示意图300和302所示的写入操作是实施写入操作的方法的非限制性实例。在其它实施例中,可以可选地使用实施写入操作的其它方法。图3a至图3b中示出的写入操作在步骤(图3a所示)期间将数据状态写入至存储器阵列的一行中的一个或多个存储单元,并且在随后的第二步骤(图3b所示)期间将第二数据状态写入至存储器阵列的该行中的一个或多个存储单元,以使用两步工艺将数据写入至存储器阵列102的整个行。应该理解,为了将数据写入mtj器件,提供的通过mtj器件的电流必须大于切换电流(即,临界切换电流)。不大于切换电流的电流将不会导致电阻状态之间的切换,并且因此不会将数据写入存储器阵列102内的mtj器件。在一些实施例中。上海海谷电子有限公司为您提供电子料回收,期待您的光临!上海批量电子物料回收公司

每个单元线路结构uws5的八条栅极线gl1至gl8可以通过sadp形成。如参照图4a至图4i所述,可以在栅极层gtl上方形成双倍心轴图案dpg1至dpg4。例如,双倍心轴图案dpg1至dpg4可以被在方向x上布置成具有可以等于抗蚀剂图案的节距的相同的双倍心轴节距pdg。在这种情况下,每个单元线路结构uws5的八条栅极线gl1至gl8可以在方向x上布置成交替地具有栅极节距pg11和第二栅极节距pg12。栅极节距pg11和第二栅极节距pg12可以彼此不同。栅极节距pg11和第二栅极节距pg12可以由表达式2表示。参照图10,每个单元线路结构uws6的八条栅极线gl1至gl8可以通过saqp形成。如参照图4a至图4i所述,可以在栅极层gtl上方顺序地形成四倍心轴图案qpg1和qpg2以及双倍心轴图案dpg1至dpg4。例如,四倍心轴图案qpg1和qpg2可以在方向x上布置成具有可以等于抗蚀剂图案的节距的相同的四倍心轴节距pqg。在这种情况下,每个单元线路结构uws6的八条栅极线gl1至gl8可以在方向x上布置成顺序地且重复地具有栅极节距pg21、第二栅极节距pg22、栅极节距pg21和第三栅极节距pg23。栅极节距pg21、第二栅极节距pg22和第三栅极节距pg23可以彼此不同。栅极节距pg21、第二栅极节距pg22和第三栅极节距pg23可以由表达式3表示。云南批量电子物料回收网电子料回收,请选择上海海谷电子有限公司,有需要可以联系我司哦!

6n条金属线和4n条栅极线形成单元线路结构,n是正整数,并且多个单元线路结构布置在方向上。在集成电路的一些实施例中,n=1,所述多个单元线路结构包括单元线路结构和第二单元线路结构,第二单元线路结构在方向上与单元线路结构相邻,第二单元线路结构的形貌与单元线路结构的形貌相同。在集成电路的一些实施例中,所述多条金属线之中的在方向上顺序地相邻的每三条金属线之间的两个金属节距彼此不同。在集成电路的一些实施例中,所述多条金属线通过自对准双倍图案化(sadp)或自对准四倍图案化(saqp)形成。在集成电路的一些实施例中,所述多条栅极线通过单图案化、sadp或saqp形成。在集成电路的一些实施例中,单元线路结构是未被划分为至少两个相等的子线路结构的小单元结构。此外,在一些实施例中,每个单元线路结构包括六条金属线和四条栅极线。此外,在一些实施例中,每个单元线路结构的六条金属线通过自对准双倍图案化(sadp)形成,并且每个单元线路结构的六条金属线在方向上布置成交替地具有金属节距和第二金属节距。此外,在一些实施例中,每个单元线路结构的四条栅极线通过单图案化形成,并且每个单元线路结构的四条栅极线在方向上布置成具有相等的栅极节距。通常。

本发明的实施例总体涉及半导体领域,更具体地,涉及集成电路及其形成方法。背景技术:许多现代电子器件包含配置为存储数据的电子存储器。电子存储器可以是易失性存储器或非易失性存储器。易失性存储器在上电时存储数据,而非易失性存储器能够在断开电源时存储数据。磁阻式随机存取存储器(mram)是用于下一代非易失性存储器技术的一种有前景的候选。技术实现要素:根据本发明的一个方面,提供了一种集成芯片,包括:工作磁隧道结(mtj)器件,连接至位线,其中,所述工作磁隧道结器件被配置为存储数据状态;以及调节访问装置,连接在所述工作磁隧道结器件和字线之间,其中,所述调节访问装置包括被配置为控制提供给所述工作磁隧道结器件的电流的一个或多个调节磁隧道结器件。根据本发明的另一个方面,提供了一种集成电路,包括:互连层,布置在衬底上方的介电结构内,其中,所述互连层通过所述介电结构与所述衬底分隔开;以及工作mtj器件,布置在所述互连层正上方并且被配置为存储数据状态,其中,所述工作mtj器件通过包括多个互连层且不延伸穿过所述衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。根据本发明的又一个方面,提供了一种形成集成电路的方法。电子料回收,请选择上海海谷电子有限公司。

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根据示例实施例的集成电路以及制造和设计所述集成电路的方法可以通过单元线路结构uws1至uws6来提高集成电路的设计效率和性能。在下文中,参照可以支持根据示例实施例的集成电路的布图的理解的图11、图12a、图12b和图12c描述标准单元的示例结构。图11实质上是示意的,图11中未示出上述实施例的所有特征。图2示出在一些实施例中金属线“ml”相对于栅极线“gl”以6比4的比率出现。图5和图7示出单个单元线路结构(uws)中存在六条金属线和四条栅极线的实施例。图8示出在具有八条栅极线(“gl”)的单个单元线路结构(uws)中存在十二条金属线(“ml”)的实施例。图11是示出示例标准单元的布图的示图,图12a、12b和12c是图11的标准单元的截面图。图12a、12b和12c示出包括鳍式场效应晶体管(finfet)的标准单元scl的一部分。图12a是图11的标准单元scl沿线a-a'的截面图。图12b是图11的标准单元scl沿b-b'线的截面图。图12c是图11的标准单元scl沿线c-c'的截面图。参照图11、图12a、图12b和图12c,标准单元可以形成在具有上表面110a的基底110上,该上表面110a在水平方向(例如,方向x和第二方向y)上延伸。在一些示例实施例中,基底110可以包括例如硅(si)、锗。上海批量电子物料回收公司

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