关于半导体工艺这点你要知道（4）蚀刻工艺
大家好！这次是第4道工序！是蚀刻（Etching）工序，我们一起学习吧~
蚀刻（Etching）工序?.
还记得之前第3课光刻（PhotoLithography）工程中“照相~”的表达吗？在这个蚀刻(Etching)过程中，我们将消除底图中不必要的部分，即只保留电路图案中必要的部分，而将不必要的部分削掉。更详细地说，如果在光刻“PhotoLithography”工序中形成了光刻胶“PhotoResist”，那么在蚀刻工序中，就是使用液体或气体（etchant）进行腐蚀，消除多余部分的工作。（其中etchant是进行腐蚀的物质的统称）这种蚀刻技术是制作铜版画的美术中经常使用的方法。19世纪画家皮萨罗（CamillePissaro）和德加（EdgarDegas）也利用蚀刻制作了很多精致细致的线。 关于半导体工艺这点你要知道（7）金属化（metallization）工艺。武汉DDR测试导电胶
导电胶内存测试垫片是什么？
市面上导电胶分多种，而其中专业内存存储测试这块的，就是导电胶测试垫片
测试内容分为处理器测试、内存测试、图形测试、硬盘测试。测试存储设备的大小和测试数量，还可以测试可读和写的速度。导电胶内存测试垫片，ddr测试导电胶,芯片导电胶,导电胶测试底座,专业研发生产厂家,专业生产芯片,可获客客户需求,能力强,压力变送器,线性模组,专业垂直开发,内存测试导电胶
相比常规的探针治具，导电胶可过更高频率，耐电流也更大， 测试稳定，短路不会烧，无探针夹具的烧针烦恼！注意：当锡球受热时会在治具上留有残渣，这时可使用***毛刷进行清理。 芯片导电胶生产厂家关于半导体工艺这点你要知道 (6)薄膜沉积工艺。
关于半导体工艺这点你要知道 (6)薄膜沉积工艺
大家好！半导体工序中的第六道工序，即薄膜沉积工艺（Thin film deposition）时间。完成蚀刻（Etching）工艺的晶片现在穿上了薄膜的衣服；薄膜是指1微米以下的薄膜。当你把这些薄膜涂在晶片上时，它就会产生电学特性。一起了解更多详细内容吧？！
1. 薄膜覆盖
如上所述，薄膜指的是真正的薄膜。如果你想到如何覆盖比晶片更薄的膜，沉积工艺真的很令人困惑。在半径为100mm的晶片上覆盖1μm薄膜，就像是要在半径为100m的土地上精细地涂上比胶带厚度还薄的膜，你是不是真的很迷茫？因此，这些薄膜工艺需要非常精确和细致的工作。就像所有的半导体工艺一样。
导电胶特点：
DDR测试 导电胶导电胶（Silicon Roover socket)座子是改善了传统半导体检测用座子市场中主流使用的探针座子（Pogopin）的缺点。 比探针座子（Pogo Pin)薄，电流损耗小，电流通过速度快，在超高速半导体检测时准确性**子损坏的风险小等特点。
可以广泛应用于逻辑芯片（AP, CPU, GPU, PMIC, RF, Sensor, Mixed signal）和存储芯片（DDR,LPDDR,NAND,MCP)等测试领域.
革恩半导体业务领域
测试设备
0.1 基于英特尔平台开发DDR及LPDDR颗粒及模组测试仪器，可并根据客户需求进行固件及软件调试。
0.2 基于MTK平台开发LPDDR、EMMC、UFS测试仪器，并可根据客户需求进行因件及软件调试。 现有P60、P90、20M、21M平台测试仪器已开发完成
0.3 高低温测试设备及量产设备
#导电胶# 如有其它需求革恩半导体也可以提供定制化服务。
关于半导体工艺这点你要知道 (6)薄膜沉积工艺
2. PVD和CVD首先制作薄膜的方法主要分为两类：物***相沉积PVD(Physical Vapor Deposition)和化学汽相淀积CVD(Chemical Vapor Deposition)。两种方法的区别在于“物理沉积还是化学沉积”。物***相沉积（PVD）又大致分为热蒸发法（Thermal evaporation）、电子束蒸发法（E-beam evaporation）和溅射法（Sputtering）。这么一说是不是已经迷茫了？
之所以有这么多方法，是因为每种方法使用的材料不同，优缺点也不尽相同。
首先物***相沉积（PVD）主要用于金属薄膜沉积，特点是不涉及化学反应；用物理方法沉积薄膜。让我们来看看其中的一个：反应溅射（Sputtering）。
溅射法（Sputtering）是一种用氩(Ar)气沉积的方式。首先真空室中存在Ar气体和自由电子，如果你给氩（Ar）气体施加一个高电压它就会变成离子。我们在我们需要沉积的基板上施加（+）电压，在我们想要沉积的材料的目标层上施加（-）电压。自由电子和氩（Ar）气体之间的碰撞导致离子化的会碰撞到（-）Target层，然后Target材料分离并沉积到基板(Substrate)上。然后氩（Ar）和自由电子不断发生碰撞沉积继续进行。 英特尔平台测试仪器 现有Skylake、Cannon Lake Y、ICE lake U、Tiger Lake U、Alder Lake S 平台仪器已开发或开发中。深圳DDR测试导电胶
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关于半导体工艺这点你要知道（4）蚀刻工艺
为什么要做好蚀刻（Etching）？！
那么为什么要做好蚀刻呢？那是因为蚀刻就是产出率。因为错误的蚀刻导致电路部分断开或不均匀，结果生产的半导体芯片会出现错误，导致无法执行想要的结果。因此，在进行蚀刻时，存在多个主要因子。
1#均匀性(Uniformity)
均匀性（Uniformity）是指蚀刻的均匀程度。均匀度之所以重要，是因为如果电路的每个部分都有不均的蚀刻程度，那么芯片可能在特定的部位无法工作。如果我们在电路的所有部分都以相同的速度和相同的量进行蚀刻，我们就会得到一个非常整洁的半导体。遗憾的是，误差是存在的，所以很多企业都在争先恐后地努力，以比较大限度地提高这种均匀度。 武汉DDR测试导电胶
深圳市革恩半导体有限公司拥有革恩半导体业务领域： 1. 测试设备 01. 基于英特尔平台开发DDR及LPDDR颗粒及模组测试仪器，并可根据客户需求进行固 件及软件调试 02. 基于MTK平台开发LPDDR、EMMC、UFS测试仪器，并可根据客户需求进行固件及软件调试现有P60、P90、G90、20M、21M平台测试仪器已开发完成及开发中 03.高低温测试设备及量产设备 2. Burn-in Board(测试烧入机） 测试仪器配件－导电胶、测试座子、探针 04.DDR测试、导电胶芯片测试、技术服务支持、支持研发服务等多项业务，主营业务涵盖芯片导电胶测试垫片，DDR测试、LPDDR测，内存测试仪器，内存颗粒内存条测试。公司目前拥有专业的技术员工，为员工提供广阔的发展平台与成长空间，为客户提供高质的产品服务，深受员工与客户好评。公司以诚信为本，业务领域涵盖芯片导电胶测试垫片，DDR测试、LPDDR测，内存测试仪器，内存颗粒内存条测试，我们本着对客户负责，对员工负责，更是对公司发展负责的态度，争取做到让每位客户满意。公司深耕芯片导电胶测试垫片，DDR测试、LPDDR测，内存测试仪器，内存颗粒内存条测试，正积蓄着更大的能量，向更广阔的空间、更宽泛的领域拓展。