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进口美国IONPURE EDI模块厂家直供

来源: 发布时间:2021年11月17日

美国IONPUREIP-LXM30Z模块不需要化学再生,可连续运行,进而不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液,以及再生所排放的废水。其主要特点如下:

美国IONPUREIP-LXM30Z模块的净水基本过程

  ·连续运行,产品水水质稳定

  ·容易实现全自动控制

  ·无须用酸碱再生

  ·不会因再生而停机

  ·节省了再生用水及再生污水处理设施

  ·产水率高(可达95%)

  ·无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施

  ·占地面积小

  ·使用安全可靠,避免工人接触酸碱

  ·降低运行及维护成本

  ·设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施

  ·安装简单、费用低廉

  ·设备初投资大 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保值得信赖。进口美国IONPURE EDI模块厂家直供

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    根据美国IONPURE IP-LXM45ZEDI模块系统的运行状态,EDI系统的清洗采用酸洗—消毒—碱洗的方法来清洗EDI模块。

1.

  清洗时,EDI系统的淡水室、浓水室和极水室都需要清洗。即清洗液从“原水进”和”浓水进”清洗口进入EDI,从“产水”、“浓水出”、“极水出”回到清洗水箱。(正洗)

2.

***步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%盐酸溶液,循环30分钟。

      冲洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,将水箱中水冲洗至中性,然后将清洗进和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(约用25% H2O2的浓10kg)循环50分钟。

      冲洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至电导率降至100μs/cm以下。

第三步:碱洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循环50分钟。

      冲洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至电导率降至100μs/cm以下。


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IONPUREL-XM系列工业型膜堆是专门为工作应用而设计的。美国IONPURE IP-LXM45Z EDI模块具有极其可靠地生产出质量稳定的高纯水,而不会由于再生而中断运行。美国IONPURE IP-LXM45Z EDI模块可以应用于电力、HP/CPI、电子、食品和饮料行业以及实验室中。


美国IONPURE IP-LXM45ZEDI模块产品特色:

采用双O-型密封圈进行密封,确保膜堆在运行中不发生泄漏;

产水水质等同甚至优于混床出水,无需使用化学药剂;

连续产水且水质稳定无波动,不似批处理设备呈周期变化;

不需要使用酸、碱中和系统及树脂罐;

具有优良的电绝缘性能;

在7bar(100psi)、45℃(113ºF)条件下,可以连续运行;

采用专利注册的“全填充”技术,不必使用浓水循环泵和加盐系统。

美国Ionpure IP-LXM45ZEDI模块清洗步骤如下:

1.准备

   1)关闭EDI系统。停止EDI系统运行,确定EDI模块的电源已被切断并把整流器转换钮转到“关闭”位置。

   2)关闭下列阀门:原水进水阀、淡水产水阀、淡水冲洗排放阀、极水排放阀、浓水排放阀、浓水循环泵进出口阀。

   3)将清洗水箱和相关的清洗管道清洗干净。

   4)连接清洗管道。把淡水产水、浓水排放、极水排放的清洗管线直接连接到清洗水箱上。把原水进水、浓水进水清洗管线连接到EDI系统的原水进水和浓水进水清洗接口上。注意清洗管线必须牢固、紧密,以防止化学药品的喷溅。 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保推荐咨询。

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美国ionpureLXM45Z EDI模块装置将给水分成三股**的水流:纯水、浓水、和极水。纯水(90%-95%)为**终得到水,浓水(5%-10%)可以再循环处理,极水(1%)排放掉。

   美国ionpureLXM45Z EDI模块装置属于精处理水系统,一般多与反渗透(RO)配合使用,组成预处理、反渗透、EDI装置的超纯水处理系统,取代了传统水处理工艺的混合离子交换设备。EDI装置进水要求为电阻率为0.025-0.5MΩ·cm,反渗透装置完全可以满足要求。EDI装置可生产电阻率高达15MΩ·cm以上的超纯水。 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保询问报价。北京专业美国IONPURE EDI模块

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3、原水水质的优劣程度,纯净水产量的大小直接影响RO膜的使用寿命,为保证RO膜正常工作,需要对RO膜进行定期维护,此项工作必须由专业人员或在专业人员的授意下完成,非专业人员或未征得专业人员授意不得擅自清洗、拆卸、对RO膜进行随意处理。如若非经本厂专业人员授意,随意拆卸高、增压泵,断水保护,反渗透系统等主机主要部件,造成损坏的,本厂概不负责。

 4、设备闲置时,必须断水断电,放净设备内所有积水,设备不得在高温与零下温度的环境内放置。


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