化学气相沉积技术
原理
化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上阐述化学反应并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步：
（1）形成挥发性物质；
（2）把上述物质转移至沉积区域；
（3）在固体上产生化学反应并产生固态物质。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。
特点
1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。
2）可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。
3）采用等离子和激光辅助技术可以明显地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行。
4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。
5）可以控制涂层的密度和涂层纯度。
6）绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好，所以可涂覆带有槽、沟、孔，甚至是盲孔的工件。
7）沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但可通过各种技术对化学反应造成气相扰动，以改善其结构。
8）可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。 常州市丰裕科技有限公司主营氧化铝喷涂，若有需要，欢迎垂询。安徽无机纤维喷涂价钱
技术类型化学气相沉积装置主要的元件就是反应器。按照反应器结构上的差别，我们可以把化学气相沉积技术分成开管/封管气流法两种类型：
1.封管法这种反应方式是将一定量的反应物质和集体放置于反应器的两边，将反应器中抽成真空，再向其中注入部分输运气体，然后再次密封，再控制反应器两端的温度使其有一定差别，它的优点是：
①能有效够避免外部污染；
②无须持续抽气就能使是内部保持真空。
它的缺点是：
①材料产生速度慢；
②管中的压力不容易掌握。
2.开管法这种制备方法的特点是反应气体混合物能够随时补充。废气也可以及时排出反应装置。以加热方法为区分，开管气流法应分为热壁和冷壁两种。前者的加热会让整个沉积室壁都会因此变热，所以管壁上同样会发生沉积。后者只有机体自身会被加热，也就没有上述缺点。冷壁式加热一般会使用感应加热、通电加热以及红外加热等等。 辽宁无机纤维喷涂常州市丰裕科技有限公司主营碳化钨喷涂，若有需要，欢迎咨询。
反应性离子镀
如果采用电子束蒸发源蒸发，在坩埚上方加20V～100V的正偏压。在真空室中导入反应性气体。如N2、O2、C2H2、CH4等代替Ar，或混入Ar，电子束中的高能电子(几千至几万电子伏特)，不仅使镀料熔化蒸发，而且能在熔化的镀料表面激励出二次电子，这些二次电子在上方正偏压作用下加速，与镀料蒸发中性粒子发生碰撞而电离成离子，在工件表面发生离化反应，从而获得氧化物(如TeO2：SiO2、Al2O3、ZnO、SnO2、Cr2O3、ZrO2、InO2等)。其特点是沉积率高，工艺温度低。
离子镀技术在1963年由D．M．Mattox提出，1972年，Bunshah&Juntz推出活性反应蒸发离子镀(AREIP)，沉积TiN,TiC等超硬膜，1972年Moley&Smith发展完善了空心热阴极离子镀，l973年又发展出射频离子镀(RFIP)。20世纪80年代，又发展出磁控溅射离子镀(MSIP)和多弧离子镀(MAIP)。
离子镀的基本特点是采用某种方法(如电子束蒸发磁控溅射，或多弧蒸发离化等)使中性粒子电离成离子和电子，在基体上必须施加负偏压，从而使离子对基体产生轰击，适当降低负偏压后，使离子进而沉积于基体成膜。离子镀的优点如下：
①膜层和基体结合力强。
②膜层均匀，致密。
③在负偏压作用下绕镀性好。
④无污染。
⑤多种基体材料均适合于离子镀。 常州市丰裕科技有限公司主营陶瓷喷涂，若有需要，欢迎致电咨询。
脱落问题在球阀上出现的比较少，但是偶尔也会出现，很多客户认为，涂层脱落就是喷涂不好，这个理解是片面的。1、涂层结合强度低由于目前市场上很多客户采用的设备性能参差不齐，所以使用性能较差的喷涂设备出现涂层脱落的概率较大，而且有些喷涂厂为了降低成本，刚玉砂循环使用次数太多，造成喷砂质量下降，这些都是涂层脱落的重要原因2、表面未清理干净产品表面有油污未处理干净，涂层就存在较大的脱落风险，有些喷涂厂没有清洗这道工序，接到货就直接喷砂处理，造成油污残留，影响涂层结合强度。3、产品基体的表面硬度过高通常情况下，基体表面硬度以低于HRC50比较好，但是有些产品淬火硬度高于HRC60，导致结合强度急剧下降，喷涂薄的涂层也许还好，喷涂厚一点就非常容易脱落。4、涂层太厚这个一般存在于局部地方，出现的几率不大，通常情况下，涂层厚度适用就好，不是越厚越好。作者曾经在做实验的时候发现，工装上堆积的涂层厚度比较高达到了32毫米，但是没有脱落，测试涂层内部也未发现裂纹，所以涂层的厚度不是涂层脱落的主要原因，但是在一些特殊情况下，涂层厚度超过了0.5毫米就存在脱落风险。 常州市丰裕科技有限公司主营碳化钨喷涂，若有需要，欢迎致电详谈。江苏特氟龙喷涂厂家
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化学气相沉积（CVD）将工件置于反应室中，抽真空并加热至900~1100℃。如要涂覆TiC层，则将钛以挥发性氯化物（如TiCl4)与气体碳氢化合物（如CH4）一起通入反应室内，这时就会在工表面发生化学反应生成TiC，并沉积在工件表面形成6~8μm厚的覆盖层。工件经气相沉积镀覆后，再进行淬火，回火处理，表面硬度可达到2000~4000HV物理类气相沉积（PVD）物理类气相沉积是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理类气相沉积方法有真空镀，真空溅射和离子镀三种，目前应用较广的是离子镀。离子镀是借助于惰性气体辉光放电，使镀料（如金属钛）气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，此时如通入CO2，N2等反应气体，便可在工件表面获得TiC,TiN覆盖层，硬度高达2000HV。离子镀的重要特点是沉积温度只有500℃左右，且覆盖层附着力强，适用于高速钢工具，热锻模等。安徽无机纤维喷涂价钱
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