化学气相沉积技术
原理
化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上阐述化学反应并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步：
（1）形成挥发性物质；
（2）把上述物质转移至沉积区域；
（3）在固体上产生化学反应并产生固态物质。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。
特点
1）在中温或高温下，通过气态的初始化合物之间的气相化学反应而形成固体物质沉积在基体上。
2）可以在常压或者真空条件下(负压“进行沉积、通常真空沉积膜层质量较好）。
3）采用等离子和激光辅助技术可以明显地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行。
4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。
5）可以控制涂层的密度和涂层纯度。
6）绕镀件好。可在复杂形状的基体上以及颗粒材料上镀膜。适合涂覆各种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好，所以可涂覆带有槽、沟、孔，甚至是盲孔的工件。
7）沉积层通常具有柱状晶体结构，不耐弯曲，但可通过各种技术对化学反应造成气相扰动，以改善其结构。
8）可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶瓷和化合物涂层。 常州市丰裕科技有限公司主营氧化铝喷涂，若有需要，欢迎咨询。热喷涂报价
微弧氧化是在铝镁、钛及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用，生长出以基体氧化物为主的陶瓷膜层。反应在常温下进行，操作方面，易于掌握。
激光熔覆作为一种新型高效涂层制备工艺，以其凝固速率快，能够获得平衡状态下无法获得的优异组织等特点受到关注。它有利于目前纳米陶瓷涂层制备中材料晶粒过度生长、致密度不高等问题的解决。
磁控溅射镀膜通常利用氩气电离产生的正离子轰击固体（靶），溅出的中性原子沉积到基片（工件上），形成镀膜。 天津防腐涂层喷涂哪里好常州市丰裕科技有限公司主营喷涂业务，若有需要，欢迎咨询。
等离子体镀膜
这里指的是PVD领域通常采用的冷阴极电弧蒸发，以固体镀料作为阴极，采用水冷、使冷阴极表面形成许多亮斑，即阴极弧斑。弧斑就是电弧在阴极附近的弧根。在极小空间的电流密度极高，弧斑尺寸极小，估计约为1μm～100μm，电流密度高达l05A/cm2～107A/cm2。每个弧斑存在极短时间，爆发性地蒸发离化阴极改正点处的镀料，蒸发离化后的金属离子，在阴极表面也会产生新的弧斑，许多弧斑不断产生和消失，所以又称多弧蒸发。 起初设计的等离子体加速器型多弧蒸发离化源，是在阴极背后配置磁场，使蒸发后的离子获得霍尔(hall)加速反应，有利于离子增大能量轰击量体，采用这种电弧蒸发离化源镀膜，离化率较高，所以又称为电弧等离子体镀膜。
物理类气相沉积详解
物理类气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理类气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理类气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 常州市丰裕科技有限公司主营陶瓷喷涂，若有需要，欢迎来电咨询。
溅射镀膜
溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材料表面，使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸的过程称为溅射。被溅射的靶材沉积到基材表面，就称作溅射镀膜。 溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。发展起来的规模性磁控溅射镀膜，沉积速率较高，工艺重复性好，便于自动化，已适当于进行大型建筑装饰镀膜，及工业材料的功能性镀膜，及TGN-JR型用多弧或磁控溅射在卷材的泡沫塑料及纤维织物表面镀镍Ni及银Ag。
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近几年，由于环保的要求越来越高，全国各地电镀企业逐渐关停，业内很多人士提出用喷涂来取代电镀。镀铬有两种，一种是装饰镀，一种是镀硬铬。大家通常讲的就是用喷涂来取代镀硬铬。首先，我个人的观点是喷涂取代镀硬铬适合用在部分产品上，比如：镜面辊、活塞杆、阀门等，而不是所有的产品上，每一个技术的存在，都是有它独有的优势和应用领域，而倡导“喷涂取代电镀”只是一个偏颇的观点。电镀跟喷涂相比，优势不是效率和质量，而是价格。热喷涂报价
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