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上海进口sic碳化硅衬底

来源: 发布时间:2022年08月27日

碳化硅SiC的应用前景  由于SiC具有上述众多优异的物理化学性质,不仅能够作为一种良好的高温结构材料,也是一种理想的高温半导体材料。近20年,伴随薄膜制备技术的高速发展,SiC薄膜已经被***应用于保护涂层、光致发光、场效应晶体管、薄膜发光二极管以及非晶Si太阳能电池的窗口材料等。另外,作为结构材料的SiC薄膜还被认为是核聚变堆中比较好的防护材料,在不锈钢基体上沉积一层SiC薄膜,可以**地降低氚的渗透率,并保持聚变反应的稳定性。总结起来,SiC具有以下几个方面的应用:(1)高的硬度与热稳定性,可用于***涂层;(2)稳定的结构,在核反应技术中用作核聚变堆等离子体的面对材料:(3)大的禁带宽度,可作为光的短波长区域发光材料。例如,3C-SiC的Eg=2.2eV,6H-SiC的Eg=2.9eV可分别用作绿色、蓝色LED材料,目前SiC蓝光LED已经商品化;(4)高的热导率,可作为超大规模集成电路和特大规模集成电路的热沉材料哪家碳化硅衬底的是口碑推荐?上海进口sic碳化硅衬底

功率半成品在成熟节点上制造。这些设备旨在提高系统的效率并将能量损失降至比较低。通常,它们的额定值是由电压和其他规格决定的,而不是由工艺几何形状决定的。多年来,占主导地位的功率半技术一直(现在仍然)基于硅,即功率MOSFET和绝缘栅双极晶体管(IGBT)。功率MOSFET被认为是低价、当下流行的器件,用于适配器、电源和其他产品中。它们用于高达900伏的应用中。在传统的MOSFET器件中,源极和漏极位于器件的顶部。相比之下,功率MOSFET具有垂直结构,其中源极和漏极位于器件的相对侧。垂直结构使设备能够处理更高的电压。青岛进口6寸sic碳化硅衬底哪家碳化硅衬底的质量比较好。

    碳化硅是由碳元素和硅元素组成的一种化合物半导体材料,它与氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)、氧化镓(Ga2O3)等,因禁带宽度大于,在国内也称为第三代半导体材料。目前,以氮化镓、碳化硅为的第三代半导体材料及相关器件芯片已成为全球高技术领域竞争战略制高争夺点。而对于碳化硅和氮化镓这两种芯片,如果想很大程度利用其材料本身的特性,较为理想的方案便是在碳化硅单晶衬底上生长外延层。在碳化硅上长同质外延很好理解,凭借着禁带宽度大、击穿电场高、饱和电子漂移速度高、热导率大等优势,碳化硅特别适于制造耐高温、耐高压,耐大电流的高频大功率的器件,因此在电动汽车、电源、、航天等领域很被看好。

不同的SiC多型体在半导体特性方面表现出各自的特性。利用SiC的这一特点可以制作SiC不同多型体间晶格完全匹配的异质复合结构和超晶格,从而获得性能较好的器件.其中6H-SiC结构**为稳定,适用于制造光电子器件:p-SiC比6H-SiC活泼,其电子迁移率比较高,饱和电子漂移速度**快,击穿电场**强,较适宜于制造高温、大功率、高频器件,及其它薄膜材料(如A1N、GaN、金刚石等)的衬底和X射线的掩膜等。而且,β-SiC薄膜能在同属立方晶系的Si衬底上生长,而Si衬底由于其面积大、质量高、价格低,可与Si的平面工艺相兼容,所以后续PECVD制备的SiC薄膜主要是β-SiC薄膜[2]。碳化硅衬底的使用时要注意什么?

SiC碳化硅是制作高温、高频、大功率、高压器件的理想材料之一:由碳元素和硅元素组成的一种化合物半导体材料。相比传统的硅材料(Si),碳化硅(SiC)的禁带宽度是硅的3倍;导热率为硅的4-5倍;击穿电压为硅的8-10倍;电子饱和漂移速率为硅的2-3倍。优势体现在:1)耐高压特性:更低的阻抗、禁带宽度更宽,能承受更大的电流和电压,带来更小尺寸的产品设计和更高的效率;2)耐高频特性:SiC器件在关断过程中不存在电流拖尾现象,能有效提高元件的开关速度(大约是Si的3-10倍),适用于更高频率和更快的开关速度;3)耐高温特性:SiC相较硅拥有更高的热导率,能在更高温度下工作。功率半导体器件是实现电力控制的关键,与Si相比,碳化硅半导体非常适合制作功率器件。河北进口sic碳化硅衬底

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SiC电子器件是微电子器件领域的研究热点之一。SiC材料的击穿电场有4MV/cm,很适合于制造高压功率器件的有源层。而由于SiC衬底存在缺点等原因,将它直接用于器件制造时,性能不好。SiC衬底经过外延之后,其表面缺点减少,晶格排列整齐,表面形貌良好,比衬底大为改观,此时将其用于制造器件可以提高器件的性能。为了提高击穿电压,厚的外延层、好的表面形貌和较低的掺杂浓度是必需的。一些高压双极性器件,需外延膜的厚度超过50μm,掺杂浓度小于2×1015cm-3,载流子寿命大过1us。对于高反压大功率器件,需要要在4H-SiC衬底上外延一层很厚的、低掺杂浓度的外延层。为了制作10KW的大功率器件,外延层厚度要达到100μm以上。高压、大电流、高可靠性SiC电子器件的不断发展对SiC外延薄膜提出了更多苛刻的要求,需要通过进一步深入的研究提高厚外延生长技术。上海进口sic碳化硅衬底

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