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郑州碳化硅衬底进口led

来源: 发布时间:2022年05月29日

    SiC材料具有良好的电学特性和力学特性,是一种非常理想的可适应诸多恶劣环境的半导体材料。它禁带宽度较大,具有热传导率高、耐高温、抗腐蚀、化学稳定性高等特点,以其作为器件结构材料,可以得到耐高温、耐高压和抗腐蚀的SiC-MEMS器件,具有广阔的市场和应用前景。同时SiC陶瓷具有高温强度大、抗氧化性强、耐磨损性好、热稳定性佳、热膨胀系数小、热导率大、硬度高以及抗热震和耐化学腐蚀等优良特性。因此,是当前有前途的结构陶瓷之一,并且已在许多高技术领域(如空间技术、核物理等)及基础产业(如石油化工、机械、车辆、造船等)得到应用,用作精密轴承、密封件、气轮机转子、喷嘴、热交换器部件及原子核反应堆材料等。如利用多层多晶碳化硅表面微机械工艺制作的微型电动机,可以在490℃以上的高温环境下稳定工作。但是SiC体单晶须在高温下生长,掺杂难于控制,晶体中存在缺点,特别是微管道缺点无法消除,而且SiC体单晶非常昂贵,因此发展低温制备SiC薄膜技术对于SiC器件的实际应用有重大意义。 为了制造碳化硅半导体器件,需要在晶片表面生长1层或数层碳化硅薄膜,这些薄膜具有不同的n、p导电类型。郑州碳化硅衬底进口led

    碳化硅(SiC)是第三代化合物半导体材料。半导体产业的基石是芯片,制作芯片的材料按照历史进程分为:代半导体材料(大部分为目前使用的高纯度硅),第二代化合物半导体材料(砷化镓、磷化铟),第三代化合物半导体材料(碳化硅、氮化镓)。碳化硅因其优越的物理性能:高禁带宽度(对应高击穿电场和高功率密度)、高电导率、高热导率,将是未来被使用的制作半导体芯片的基础材料。从产业格局看,目前全球SiC产业格局呈现美国、欧洲、日本三足鼎立态势。其中美国全球独大,占有全球SiC产量的70%~80%,碳化硅晶圆市场CREE一家市占率高达6成之多;欧洲拥有完整的SiC衬底、外延、器件以及应用产业链,在全球电力电子市场拥有强大的话语权;日本是设备和模块开发方面的者。 辽宁碳化硅衬底进口4寸led碳化硅非常适合用作新一代发光二极管(LED)衬底材料、大功率电力电子材料。

    在4H-SiC材料和器件发展方面,美国处于国际地位,已经从探索性研究阶段向大规模研究和应用阶段过渡。CREE公司已经生产出4英寸(100mm)零微管(ZMP)n型SiC衬底。同时,螺旋位错(screwdislocation)密度被降低到几十个/cm2。商用水平比较高的器件:4H-SiCMESFET在S-波段连续波工作60W(,ldB压缩),漏效率45%(,POUT=PldB),工作频率至。近期CREE公司生产的CRF35010性能达到:工作电压48V,输出功率10W,工作频率,线性增益10dB;美国正在逐步将这种器件装备在***武器上,如固态相控阵雷达系统、***通讯电子系统、高频电源系统、电子战系统——干扰和威胁信号预警等。其中Cree公司的SiCMESFET功率管已经正式装备美国海军的新一代预警机E2D样机。近期俄罗斯、欧洲和日本加快发展,SiC材料生长和器件制造技术也在不断走向成熟。

SiC产业链包括上游的衬底和外延环节、中游的器件和模块制造环节,以及下游的应用环节。其中衬底的制造是产业链技术壁垒比较高、价值量比较大环节,是未来SiC大规模产业化推进的。1)衬底:价值量占比46%,为的环节。由SiC粉经过长晶、加工、切割、研磨、抛光、清洗环节终形成衬底。其中SiC晶体的生长为工艺,难点在提升良率。类型可分为导电型、和半绝缘型衬底,分别用于功率和射频器件领域。外延:价值量占比 23%。本质是在衬底上面再覆盖一层薄膜以满足器件生产的条件。 具体分为:导电型 SiC 衬底用于 SiC 外延,进而生产功率器件用于电动汽车以及新 能源等领域。半绝缘型 SiC 衬底用于氮化镓外延,进而生产射频器件用于 5G 通信等 领域。SiC单晶生长经历了3个阶段,即Acheson法、Lely法、改良Lely法。

的中端功率半导体器件是IGBT,它结合了MOSFET和双极晶体管的特性。IGBT用于400伏至10千伏的应用。问题是功率MOSFET和IGBT正达到其理论极限,并遭受不必要的能量损失。一个设备可能会经历能量损失,原因有两个:传导和开关。传导损耗是由于器件中的电阻引起的,而开关损耗发生在开关状态。这就是碳化硅适合的地方。基于氮化镓(GaN)的电力半成品也正在出现。GaN和SiC都是宽带隙技术。硅的带隙为1.1eV。相比之下,SiC的带隙为3.3eV,而GaN为3.4eV。DC-DC转换器获取蓄电池电压,然后将其降到较低的电压。这用于控制车窗、加热器和其他功能。碳化硅在大功率LED方面具有非常大的优势。6寸n型碳化硅衬底

碳化硅的硬度很大,具有优良的导热和导电性能,高温时能抗氧化。郑州碳化硅衬底进口led

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