金相式样的制备方法:金相显微式样的制备抛光、浸蚀等工序。抛光细磨的式样还需进行抛光,抛光的目的是去除细磨时遗留下来的细微磨痕而获得光亮的镜面。式样的抛光是在抛光机上进行的,转速一般100～150r/min。抛光时在抛光盘盘面上铺有丝绒等织物,并不断滴注抛光液。抛光液是由àl2O3、Cr2O3或MgO等极细粒度的磨料加水而形成的悬浮液,依靠抛光液中极细的抛光粉末与式样磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕。抛光时应使式样磨面均匀地压在旋转的抛光盘上,并沿盘的边缘到中心不断作径向往复运动。除机械抛光方法外,还有电解抛光、化学抛光等其他抛光方法。浸蚀经抛光后的式样还必须经过浸蚀后才能在显微镜下进行观察。浸蚀主要是依靠浸蚀剂对金属的溶解或电化学腐蚀过程,使金属式样表面的晶粒与晶界及各组成相之间呈现轻微的凹凸不平,在显微镜下就可以清楚地观察到式样表面,浸蚀时间要适当,一般式样磨面发暗时就可停止。如果浸蚀不足重复浸蚀。浸蚀完毕后立即用清水冲洗,然后用酒精冲洗,用吹风机吹干,式样即可置于金相显微镜上进行观察.进口金相自动热镶嵌机。上海完善金相制样设备切割机
抛光的目的是除去金相制样设备磨面上由细磨留下的磨痕,成为平整无疵的镜面。抛光结果在很大程度上取决于前几道工序的质量,故抛光之前应仔细检查磨面磨痕是否为单一方向且均匀,否则应重新磨光,以免白费时间。抛光通常在金相样品抛光机上洒以适量的抛光液后进行,转速一般在200～600r/min,粗抛时转速较高,精抛或抛软材料时转速较低。在抛光盘上蒙一层织物,粗抛时常用帆布、粗呢等,精抛时常用绒布、细呢金丝绒与丝绸等。抛光耗材抛光注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大,并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多,会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落,抛光面质量不佳；若抛光液太少,将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动,以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。尽量减少抛光面表层金属变形的可能性,整个抛光时间不宜过长,磨痕全部消除,出现镜面后,抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。江西高性能金相制样设备实验金相制样设备：金相切割机、镶嵌机、研磨机。
在制样过程中为了便于机械磨抛，将金相试样镶嵌成标准尺寸大小。往往会根据不同的应用要求（比如镶嵌料是否需要具有导电性、试样边缘是否需要边缘保护、试样是否需要批量镶嵌、镶嵌树脂是否需要很好地填充到试样内部孔隙中等等）来选择不同的镶嵌方案：是选择冷镶还是热镶？是选择冷镶或热镶树脂中的哪一种？镶嵌过程中常见的一些问题有：1、冷镶嵌块有大量气泡；2、试样与树脂交界处有缝隙；3、镶嵌块表面有放射状裂纹；4、镶嵌树脂黏模。
抛光:抛光的目的是除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕，成为平整无疵的镜面。抛光结果在很大程度上取决于前几道工序的质量，故抛光之前应仔细检查磨面磨痕是否为单一方向且均匀，否则应重新磨光，以免白费时间。抛光时在金相样品抛光机上洒以适量的抛光液后进行，转速一般在200～600r/min，粗抛时转速较高，精抛或抛软材料时转速较低。在抛光盘上蒙一层织物，粗抛时常用帆布、粗呢等，精抛时常用绒布、细呢金丝绒与丝绸等。抛光注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大，并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多，会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落，抛光面质量不佳；若抛光液太少，将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动，以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。尽量减少抛光面表层金属变形的可能性，整个抛光时间不宜过长，磨痕全部消除，出现镜面后，抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。深圳市新则兴科技金相制样设备。
抛光时操作者对试样施加的压力同样会对软质材料产生变形层。常用的磨抛设备并没有控制试样压力的功能，全靠操作者的经验，制样效果的不确定性很大。抛光时间并不是越长越好，长时间的过度抛光，会使夹杂物或基体中的石墨等脱落或产生拖尾现象，影响判定，也可能出现磨抛腐蚀坑的情况，而且抛光时间过长也会降低效率。常用的抛光织物有呢、平绒、丝绒、帆布、聚胺脂等。粗抛时可以选择回复性大的抛光织物，即纤维、绒毛长的抛光织物，其优点是抛光磨料能嵌入织物纤维中，不易被离心力甩出，可保持比较高的抛光效率。细抛时抛光织物可以选择纤维或绒较短的抛光织物，或比较薄的抛光织物。抛光液一般都采用金刚石抛光液，其抛光速率很快，效率很高，能满足大部分金属材料的制样需要。但对于一些有色合金或低硬度材料等，应选用氧化铝、氧化硅、氧化铬、氧化镁等抛光液进行抛光。高性能***砂轮切割机。上海完善金相制样设备切割机
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