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  • 浙江宝石抛光液生产工艺

    铜及铜合金抛光液1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、精抛两个级别,用于铜及铜合金工件表面各种效果要求的抛光。产品概述本产品是专门针对铜及铜合金的一款高效抛光液,能快速去除铜材料表面氧化层、污物、坑点、划痕等,快速地抛出高质量表面。主要成分:金刚石/硅溶胶应用领域:1.适用于铜及铜合金工件的抛光,具有良好的抛光效果。2.广泛应用在电力、高铁、汽车部件、空调、生活家电、散热系统、精密电子、精密仪器、航空航天、通讯腔体、机箱机柜、晶振晶体等领域。产品特点:1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、中抛、精抛三个级别,用于铜...

  • 重庆进口金刚石抛光液性能

    抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 [2] 多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。 质量比较好的抛光液的公司找谁?重庆进口金刚石抛光液性能化学机械抛光集中了化学抛光和机械抛光的综合优点,纯粹化学抛光腐蚀性大,抛光速率大,损伤低,表面光洁度高,但是...

  • 重庆基板抛光液价格查询

    依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作...

  • 东莞进口金刚石抛光液价格查询

    抛光液对大家来说可能是一个很陌生的东西,也不太了解这是用来干什么的,但它与我们的生活其实息息相关。就让小编来带大家了解一下到底什么是抛光液,它到底有什么特点。1.抛光液具有很好的去油污清洗功能抛光液是一种化学产品,对于去油污,清洗,防锈一方面可以发挥很重要的作用,清洗过后会使金属显露出真实的金属颜色。2.抛光液可以用来处理材料表面的粗糙度主要靠抛光液中的磨料或者抛光液中的化学成分作用,来使物体表面的粗糙程度降低。在LED行业加工过程中就需要对其产品进行抛光,例如蓝宝石的硬度就非常高,普通磨料很难对其进行加工,这时抛光液就会发挥很大的作用。3.抛光液具有无毒不会对环境造成污染的功能虽然说抛光...

  • 临沂国产抛光液价格查询

    金属表面抛光技,又称表面整平技术,在整平程度要求很高的特殊情况下则称之为镜面加工技术。表面整平技术是随着人类在寻求生存过程中的生产活动和生活需要而发展起来的。我们的祖先在发展生产的过程中所使用的工具,不管是石器或是金属工具,为了提高生产效率,设法把工具磨得平整、光亮、尖锐、锋利,为了生存而与野兽搏斗、与异族的抗争中使用的金属武器都设法把其表面整平,磨得光亮、锋利以便更好的战斗。随着生产力的发展,人类社会的生活逐渐由转向和平,又贫穷转向富裕,人们为了提高自身的生活质量和审美,出现了各种生活的精饰品,这些用品也需要较好的抛光、整平以提高它的光鲜度及提高产品的价值。氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高...

  • 上海物理抛光液加工

    不锈钢抛光液1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、中抛、精抛三个级别。3.用于各种不同型号的不锈钢金属表面的各种效果要求的抛光。产品概述本产品是专门针对不锈钢抛光的一款高效抛光液,具有较好的化学物理抛光去除平衡,能快速达到抛光效果,而且无抛光橘皮、坑点等缺陷的产生。主要对不锈钢金属表明进行粗加工、中加工和精加工,以达到不同的抛光效果。主要成分:氧化铝/白刚玉/硅溶胶应用领域:1.适用于各种不锈钢材料的抛光,具有良好的抛光效果。2.主要应用在机械制造、电子零部件、仪表仪器、轻工、钟表零件、、航天、纺织器材、汽车零部件、轴承行业、医疗器械、精密件、工具等多种行业领...

  • 佛山抛光液规格

    蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性,在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用:1.外延片生产前衬底的双面研磨:多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道,根据**终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。2.LED芯片背面减薄为解决蓝宝石的散热问题,需要将蓝宝石衬底的厚度减薄,从450nm左右减至100nm左右。主要有两步:先在横向减薄机上,用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度;再用抛光机(秀和、NTS、WEC等)针对不同的研...

  • 氧化锆抛光液

    氧化铈抛光液。二氧化铈是玻璃抛光的通用磨削材料。随着工件尺寸的缩小,传统的硅容易在尺寸较大的集成电路STI(浅沟隔离)处形成蝶形缺陷。而针对STI的抛光,选择合适的抛光液是关键,采用氧化铈作为研磨颗粒的第二代抛光液,具有高选择性和抛光终点自动停止的特性,配合粗抛和精抛,能抛光液中二氧化铈的粒度是影响抛光效果的关键参数之一。目前制备出的二氧化铈的粒径多为微米级或亚微米级,粒度分布不均,粒径大的溶液产生划痕,严重影响到被抛光工件的抛光质量。因此,纳米级二氧化铈的制备及应用是目前研究的热点之一。够十分有效解决代STI工艺缺点,是目前重点发展的产品类型之一。多晶金刚石抛光液有良好的韧性,在研磨抛光过程...

  • 重庆中性抛光液厂家

    纳米抛光液应用范围:1、透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。2、化妆品填料。3、单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。4、**度氧化铝陶瓷、C基板、封装材料、***、高纯坩埚、绕线轴、轰击靶、炉管。5、精密抛光材料、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带。6、涂料、橡胶、塑料耐磨增强材料、高级耐水材料。7、气相沉积材料、荧光材料、特种玻璃、复合材料和树脂材料。8、催化剂、催化载体、分析试剂。9、汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘哪家抛光液的的性价比好?重庆中性抛光液厂家 随着经济的发展,为了彻底摆脱对进口抛光液的依赖,抛光液行业在国内的关注度逐渐上升,但在抛光液的制...

  • 苏州研磨抛光用抛光液价格

    依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作...

  • 浙江进口抛光液厂家

    化学机械作用研磨液:化学机械作用研磨液利用了磨损中的“软磨硬”原理,即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的抛光表面,是机械削磨和化学腐蚀的组合技术,它借助超微粒子的研磨作用和化学腐蚀作用在被研磨的介质表面形成光洁平坦表面。所以化学机械作用研磨液又称为化学机械抛光液(Chemical Mechanical Polishing,简称CMP)。在一定压力及抛光浆料存在下,被抛光工件相对于抛光垫作相对运动,借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合,在被研磨的工件表面形成光洁表面。纳米 抛光液用 于硬质材料的超精密抛光过程,可使被抛表面粗糙度低于0.2nm。浙江进口抛光液厂家依据机械加工...

  • 佛山钻石抛光液性能

    化学机械作用研磨液:化学机械作用研磨液利用了磨损中的“软磨硬”原理,即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的抛光表面,是机械削磨和化学腐蚀的组合技术,它借助超微粒子的研磨作用和化学腐蚀作用在被研磨的介质表面形成光洁平坦表面。所以化学机械作用研磨液又称为化学机械抛光液(Chemical Mechanical Polishing,简称CMP)。在一定压力及抛光浆料存在下,被抛光工件相对于抛光垫作相对运动,借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合,在被研磨的工件表面形成光洁表面。苏州质量好的抛光液的公司联系方式。佛山钻石抛光液性能在化学机械抛光中运用的氧化铝磨料,常选用硬度大、性能安稳...

  • 河北研磨抛光用抛光液规格

    抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,抛光液具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品显露出真实的金属光泽。性能稳定、无毒,对环境无污染等优点。抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。产品性能稳定、无毒,对环境无污染等优点。光液使用方法编辑语音包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光。1、抛光剂投放量为(根据不同产品的大小,光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进...

  • 北京硅抛光液生产工艺

    铜及铜合金抛光液1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、精抛两个级别,用于铜及铜合金工件表面各种效果要求的抛光。产品概述本产品是专门针对铜及铜合金的一款高效抛光液,能快速去除铜材料表面氧化层、污物、坑点、划痕等,快速地抛出高质量表面。主要成分:金刚石/硅溶胶应用领域:1.适用于铜及铜合金工件的抛光,具有良好的抛光效果。2.广泛应用在电力、高铁、汽车部件、空调、生活家电、散热系统、精密电子、精密仪器、航空航天、通讯腔体、机箱机柜、晶振晶体等领域。产品特点:1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、中抛、精抛三个级别,用于铜及铜合金工件...

  • 杭州钻石抛光液价格查询

    玻璃抛光液1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品具有抛光速度快、使用寿命长、良好的悬浮性、易清洗等特点。3.精密抛光。产品概述本产品是专门针对玻璃的一款高效抛光液,能快速去除表面缺陷,具有较好的化学物理抛光去除平衡,快速地抛出高质量表面,而且无划伤、阿拉比、青蛙皮等缺陷的产生。本产品适用于抛光高精密玻璃,能有效解决材质划伤和抛光粉堆积造成的表面斑点现象。主要成分:氧化铈/硅溶胶应用领域:1.适用于各种玻璃抛光,具有良好的抛光效果。2.适用于精密光学器件、硬盘基片、液晶屏幕显示器,高精密度光学玻璃抛光、光学镜头、光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛...

  • 北京硅抛光液厂家

    化学机械抛光编辑 语音这两个概念主要出半导体加工过程中,初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两...

  • 重庆基板抛光液加工

    LED行业目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。2.半导体行业CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可...

  • 杭州硅抛光液

    铜及铜合金抛光液1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、精抛两个级别,用于铜及铜合金工件表面各种效果要求的抛光。产品概述本产品是专门针对铜及铜合金的一款高效抛光液,能快速去除铜材料表面氧化层、污物、坑点、划痕等,快速地抛出高质量表面。主要成分:金刚石/硅溶胶应用领域:1.适用于铜及铜合金工件的抛光,具有良好的抛光效果。2.广泛应用在电力、高铁、汽车部件、空调、生活家电、散热系统、精密电子、精密仪器、航空航天、通讯腔体、机箱机柜、晶振晶体等领域。产品特点:1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、中抛、精抛三个级别,用于铜...

  • 苏州研磨抛光用抛光液

    目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。CMP技术还的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供“光滑”的表面,但却都是...

  • 上海进口金刚石抛光液

    随着经济的发展,为了彻底摆脱对进口抛光液的依赖,抛光液行业在国内的关注度逐渐上升,但在抛光液的制备及其使用过程中仍有许多问题需要解决:(一)抛光液对环境的影响。化学机械抛光液中的化学成分,如氨、酸等有毒成分对环境和人体的伤害很大,为此,在进一步研究抛光液制备工艺的同时,抛光液的循环利用也要进一步完善,做到经济发展与环境保护相协调。例如,水性体系的抛光液绿色环保,散热快。(二)化学机械抛光液磨料粒子的分散问题。抛光液中使用的多为纳米粒子,纳米粒子的比表面积较大,表面能较高,极易发生团聚,目前国内外常用超声波、机械搅拌、表面处理等机械化学方法对纳米磨料粒子进行分散,但是往往达不到效果,...

  • 湖北国产抛光液

    目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。CMP技术还的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供“光滑”的表面,但却都是...

  • 山东基板抛光液价格

    在化学机械抛光中运用的氧化铝磨料,常选用硬度大、性能安稳、不溶于水、不溶于酸碱的纳米α-Al2O3。作为化学机械抛光磨料,氧化铝颗粒的巨细、形状、粒度散布都影响抛光效果。在LED行业,CMP抛光液中常选用粒径50∼200nm、粒径散布均匀的纳米α-Al2O3。近年来对α-Al2O3磨料颗粒的研讨主要会集在纳米级球形颗粒的制备上。常见制备办法有以下几种。固相法。其间的硫酸铝铵热解法、改进拜尔法、法等是比较老练的制备办法。固相法制备超细粉体的流程简单,无需溶剂,产率较高,但生成的粉体易发作聚会,且粒度不易操控,难以得到散布均匀的小粒径的高质量纳米粉体。纳米级的氧化铝适用于光学镜头、单芯光纤连接器、...

  • 北京碱性抛光液价格

    不锈钢抛光液1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、中抛、精抛三个级别。3.用于各种不同型号的不锈钢金属表面的各种效果要求的抛光。产品概述本产品是专门针对不锈钢抛光的一款高效抛光液,具有较好的化学物理抛光去除平衡,能快速达到抛光效果,而且无抛光橘皮、坑点等缺陷的产生。主要对不锈钢金属表明进行粗加工、中加工和精加工,以达到不同的抛光效果。主要成分:氧化铝/白刚玉/硅溶胶应用领域:1.适用于各种不锈钢材料的抛光,具有良好的抛光效果。2.主要应用在机械制造、电子零部件、仪表仪器、轻工、钟表零件、、航天、纺织器材、汽车零部件、轴承行业、医疗器械、精密件、工具...

  • 佛山研磨抛光用抛光液用途

    纳米抛光液应用范围:1、透明陶瓷:高压钠灯灯管、EP-ROM窗口。2、化妆品填料。3、单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。4、**度氧化铝陶瓷、C基板、封装材料、***、高纯坩埚、绕线轴、轰击靶、炉管。5、精密抛光材料、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带。6、涂料、橡胶、塑料耐磨增强材料、高级耐水材料。7、气相沉积材料、荧光材料、特种玻璃、复合材料和树脂材料。8、催化剂、催化载体、分析试剂。9、汽车表面漆层、宇航飞机机翼前缘。氧化铈抛光液用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。佛山研磨抛光用抛光液用途 抛光液的主要产...

  • 广州进口抛光液介绍

    抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 [2] 多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。 本公司销售的氧化铝抛光液颗粒粒径分布适中,很大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率。广州进口抛光液介绍化学机械抛光液(CMP)根据磨料不同的分类:二氧化硅研磨液...

  • 广东进口抛光液价格查询

    纳米抛光液本公司有多种纳米抛光液,有纳米氧化铝抛光液、纳米氧化铈抛光液,纳米氧化锆抛光液、纳米氧化镁抛光液、纳米氧化钛抛光液、纳米氧化硅抛光液等。本系列纳米抛光液晶相稳定、硬度有高有低、适合客户各种软硬材料抛光,被广泛应用于催化剂,精密抛光,化工助剂,电子陶瓷,结构陶瓷,紫外线收剂,电池材料等领域。我公司采用先进的分散技术将纳米氧化物粉体超级分散,形成高度分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化物浆料。具有更高的活性、易加入等特性,方便顾客使用。主要用途:适合各种宝石研磨抛光、电子磁性材料的研磨抛光、普通玻璃抛光,工艺玻璃抛光,水晶玻璃抛光,单晶硅片抛光,油漆表面抛光,手机外壳抛光,汽车表...

  • 进口金刚石抛光液价格查询

    铜及铜合金抛光液1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、精抛两个级别,用于铜及铜合金工件表面各种效果要求的抛光。产品概述本产品是专门针对铜及铜合金的一款高效抛光液,能快速去除铜材料表面氧化层、污物、坑点、划痕等,快速地抛出高质量表面。主要成分:金刚石/硅溶胶应用领域:1.适用于铜及铜合金工件的抛光,具有良好的抛光效果。2.广泛应用在电力、高铁、汽车部件、空调、生活家电、散热系统、精密电子、精密仪器、航空航天、通讯腔体、机箱机柜、晶振晶体等领域。产品特点:1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好。2.本产品分为粗抛、中抛、精抛三个级别,用于铜...

  • 上海进口金刚石抛光液加工

    依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等,对硅单晶片化学机械抛光(CMP)机理、动力学控制过程和影响因素研究标明,化学机械抛光是一个复杂的多相反应,它存在着两个动力学过程:(1)抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。(2)抛光表面反应物脱离硅单晶表面,即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程,要获得质量好的抛光片,必须使抛光过程中的化学腐蚀作用...

  • 河南进口金刚石抛光液性能

    陶瓷抛光液1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质,对环境友好;2.本产品主要由其金刚石微粉、分散稳定剂、悬浮剂、pH值调节剂、防腐剂、有机溶剂和去离子水组成,3.具有适用性强,产品分散性好,粒度均匀、规格齐全、品质稳定等特点。产品概述本产品是专门针对陶瓷的一款高效研磨液,能快速去除表面缺陷,具有一定的润滑、冷却作用,易于研磨后的清洗,悬浮性能好,金属离子螯合能力强。主要成分:金刚石/硅溶胶应用领域:广泛应用于各类陶瓷制品(氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等)工件的研磨,具有良好的研磨效果。产品特点:1.本产品不含重金属、不含有毒有害物质、对环境友好。2...

  • 上海中性抛光液厂商

    化学机械抛光编辑 语音这两个概念主要出半导体加工过程中,初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两...

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