四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，广用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规格，各国为推动本国微电子工业发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体场，因此具有广阔的发展潜力。四氟化碳没有腐蚀性。销售四氟化碳推荐企业
只有适当的条件下，四氟化碳才能与氧化剂和还原剂进行反应。四氟化碳不燃烧，有低毒性和窒息性。四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。与可燃性气体一起燃烧时，发生分解，产生的氧化物有毒。四氟化碳没有腐蚀性。可使用铝、铜、青铜、钢、不锈钢等大部分金属和合金材料。聚四氟乙烯和环氧树脂具有良好的耐腐蚀性能。聚三氟氯乙烯聚合体接触四氟化碳有轻微溶胀现象，但傻仍可耐无能蚀。尼龙在高温和有空或有水分存在情况下，它全变脆。
无锡销售四氟化碳质量代理商R-14制冷剂，别名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名称有Freon 14等。
四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体，充装于四氟化碳钢瓶中，饱和蒸汽压约压力2000 psig。四氟化碳是一种造成温室效应的气体。它非常稳定，可以长时间停留在大气层中，是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年，全球增温(全球暖化)系数是6,500（二氧化碳的系数是1）。虽然结构与氟氯烃相似，但四氟化碳不会破坏臭氧层。这是因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，它被紫外线辐射击中时会分离。碳-氟键比较强，因此分离的可能性比较低。
四氟化碳与氧在高温下不反应]四氟化炭是目前微电子行业使用比较多的等离子蚀刻气体，它是由高纯气与高纯气配高纯氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料的蚀刻。在使用CF4-H2反应离子刻蚀的硅及二氧化硅系统中，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这对刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概览危险类别：：吸入健康危险：吸入浓度高的四氟化碳后，出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。 由于化学稳定性极强，CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
四氟化碳又称四氟甲烷，被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂。常温常压下比较稳定，但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体，如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，可广用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面都有着大量的应用。 温室气体，其造成温室效应的作用是二氧化碳的数千倍。无锡***四氟化碳
四氟化碳不溶于水，常压下25℃时为0.0015，溶于氯仿和苯。销售四氟化碳推荐企业
二氧化碳钢瓶的使用方法及注意事项； 使用前检查连接部位是否漏气，可涂上肥皂液进行检查，调整至确实不漏气后才进行实验。使用时先逆时针打开钢瓶总开关观察高压表读数，记录高压瓶内总的二氧化碳压力。然后顺时针转动低压表压力调节螺杆，使其压缩主弹簧将活门打开。这样进口的高压气体，由高压室经节流减压后进入低压室，并经出口通往工作系统。使用后，先关闭顺时针，关闭钢瓶总开关，再逆时针旋松减压阀。各种气瓶必须定期进行技术检查。充装一般气体的气瓶三年检验一次；如在使用中发现有严重腐蚀或严重损伤的，应提前进行检验。
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