就目前而言，四氟化碳以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力。以四氟化碳为表示的全氟烷广用作微电子行业中的等离子体蚀刻气体，近年来世界需求量日益扩大，市场看好。国外大公司纷纷扩大其产能。目前国内虽有全氟烷生产，但规模不大，技术落后，特别是纯度不能满足电子产品的需求。因此，有必要加强以四氟化碳为表示的全氟烷的生产与研究，特别是进一步开发氢氟烃直接氟化法和氟碳直接合成法工艺以及以吸附-低温精馏为表示的精制工艺，使其早日实现工业化生产。 常温常压下稳定，避免强氧化剂、易燃或可燃物。扬州***四氟化碳优化价格
四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体，充装于四氟化碳钢瓶中，饱和蒸汽压约压力2000 psig。四氟化碳是一种造成温室效应的气体。它非常稳定，可以长时间停留在大气层中，是一种非常强大的温室气体。它在大气中的寿命约为50,000年，全球增温(全球暖化)系数是6,500（二氧化碳的系数是1）。虽然结构与氟氯烃相似，但四氟化碳不会破坏臭氧层。这是因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，它被紫外线辐射击中时会分离。碳-氟键比较强，因此分离的可能性比较低。江浙沪直销四氟化碳哪里有四氟化碳是不燃气体，如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂、危险。
四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子体蚀刻气体，用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用。由于它的化学稳定性极强，CF4还可用于金属冶炼和塑料行业等。当今超大规模集成电路所用电子气体的特点和发展趋势是超纯、超净、多品种、多规模，各国为推动本国微电子工业的发展，越来越重视发展特种电子气体的生产技术。就目前而言，CF4以其相对低廉的价格长期占据着蚀刻气体的市场，因此具有广阔的发展潜力。
四氟化碳与氧在高温下不反应]四氟化炭是目前微电子行业使用比较多的等离子蚀刻气体，它是由高纯气与高纯气配高纯氧的混合物，可用于硅粉、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃和钨薄膜材料的蚀刻。在使用CF4-H2反应离子刻蚀的硅及二氧化硅系统中，通过调节两种气体的比例，可以获得45:1的选择性，这对刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜是非常有用的。危害概览危险类别：：吸入健康危险：吸入浓度高的四氟化碳后，出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。 与可燃性气体一起燃烧时，发生分解，产生的氧化物。
在实验室内，四氟化碳可以由二氧化碳、一氧化碳或光气与四氟化硫的氟化作用来获取。商业上可由氟与二氯二氟甲烷或氯三氟甲烷的反应制备。另一个方法是用碳电极电解氟化物MF、MF2。四氟化碳，像其他氟代烃一样，是十分稳定的，这是因为C-F键很强，键能为515kJ.mol-1（参见环境影响）。因此不与酸及氢氧化物反应，但是会跟碱金属发生危险反应。热分解会产生剧毒的气体（碳酰氟、一氧化碳，如果有水存在，还会产生腐蚀性的氟化氢）。四氟化碳微溶于水（约20mg.l-1），但可与乙醇及石油醚混溶。四氟化碳，又称为四氟甲烷。杭州销售四氟化碳价格走势
由于化学稳定性极强，CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。扬州***四氟化碳优化价格
质量指标纯度（%）≥99.99水份（PPm）≤10酸度（PPm）≤0.3蒸发残留物（PPm）≤100％物理性质分子量88.0沸点（1atm），℃-128临界温度，℃-45.67临界压力，kPa3740饱和蒸气压（25℃），kPa3650（-45.6℃）汽化热/蒸发潜热（沸点下，1atm），kJ/kg-破坏臭氧潜能值（ODP）0全球变暖潜能值(GWP，100yr)5700ASHRAE安全级别A1（无毒不可燃）化学性质相对分子量88.00。在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是**稳定的有机化合物之一，不易溶于水。在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，*在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%（重量比），然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒氟化物。扬州***四氟化碳优化价格
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