R-14商品名称Reflube14。R-14属于FC类物质——对臭氧层没有破坏、但存在温室效应；目前对于R14制冷剂的生产、销售以及在新制冷设备上的初装、售后设备上的再添加均没有限制。四氟化碳（四氟甲烷/全氟甲烷）CF4R-14制冷剂，别名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名称有Freon14等，中文名称四氟化碳、四氟甲烷，英文名称CarbonTetrafluorideorTetrafluoromethane，化学式CF4，产品用途R-14作为一款特种**温制冷剂，主要应用于要求温度非常低的深冷设备中（包括科研制冷、医用制冷等），R14同时也是**温配合冷媒的重要组分。四氟化碳（四氟甲烷）是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟甲烷高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。四氟化碳是无色无臭并且不燃的可压缩性气体。无锡四氟化碳优化价格
四氟化碳又称四氟甲烷，被视为一种无机化合物。用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂。常温常压下比较稳定，但是需要避免接触强氧化剂、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃气体，如果遇到高热后会造成容器内压增大，有开裂、有危险。通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，可用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄露检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面都有着大量的应用。 无锡优良四氟化碳哪里有.由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应。
只有适当的条件下，四氟化碳才能与氧化剂和还原剂进行反应。四氟化碳不燃烧，有低毒性和窒息性。四氟化碳对肝脏、脑神经系统有损害。与可燃性气体一起燃烧时，发生分解，产生的氧化物有毒。四氟化碳没有腐蚀性。可使用铝、铜、青铜、钢、不锈钢等大部分金属和合金材料。聚四氟乙烯和环氧树脂具有良好的耐腐蚀性能。聚三氟氯乙烯聚合体接触四氟化碳有轻微溶胀现象，但傻仍可耐无能蚀。尼龙在高温和有空或有水分存在情况下，它全变脆。
四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的，在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中，氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程，使尺寸和形状得到更好的控制，这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制（如半导体各项异性控制）。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯阳氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。 四氟化碳没有腐蚀性。
四氟化碳有以下用途：用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体，用于低温制冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂；是微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，四氟甲烷高纯气及四氟甲烷高纯气、高纯氧的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、泄漏检验、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用；用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。 通常常温下只会与液氨-金属钠试剂能发生作用。直销四氟化碳质量代理商
以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。无锡四氟化碳优化价格
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上海隆鑫工业气体有限公司总部位于联泰路63号3幢1023室，是一家主要服务于半导体、LED、太阳能、石油化工、生物医药、高校、科研、电力、电子、船舶、煤矿、汽车、医疗、消防、航空航天、食品、建筑、冶炼、精细化工、加工制造等行业。上海隆鑫工业气体有限公司成立于2015年，专业从事混合气体、高纯气体、电子气体、同位素气体等产品的生产和销售，并提供气体管路配套工程服务。 的公司。隆鑫拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队，以高度的专注和执着为客户提供超纯气，电子气，标准气，同位素气体。隆鑫始终以本分踏实的精神和必胜的信念，影响并带动团队取得成功。隆鑫始终关注自身，在风云变化的时代，对自身的建设毫不懈怠，高度的专注与执着使隆鑫在行业的从容而自信。