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无锡原装四氟化碳优化价格

来源: 发布时间:2022年04月18日

质量指标纯度(%)≥99.99水份(PPm)≤10酸度(PPm)≤0.3蒸发残留物(PPm)≤100%物理性质分子量88.0沸点(1atm),℃-128临界温度,℃-45.67临界压力,kPa3740饱和蒸气压(25℃),kPa3650(-45.6℃)汽化热/蒸发潜热(沸点下,1atm),kJ/kg-破坏臭氧潜能值(ODP)0全球变暖潜能值(GWP,100yr)5700ASHRAE安全级别A1(无毒不可燃)化学性质相对分子量88.00。在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体,挥发性较高,是**稳定的有机化合物之一,不易溶于水。在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,*在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒氟化物。四氟化碳不燃烧,有低毒性和窒息性。无锡原装四氟化碳优化价格

高纯四氟化碳和六氟化硫产品满足重大专项/课题任务书研究内容和考核指标规定的技术要求。项目的验收完成,标志着黎明院开发的高纯度含氟电子气体四氟化碳和六氟化硫产品,能够满足极大规模集成电路行业所需的高纯度气体需求,也标志着极大规模集成电路行业用高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体实现了国产化。高纯度四氟化碳和六氟化硫电子气体是极大规模集成电路行业必须的清洗、蚀刻气体。随着极大规模集成电路技术的提升,芯片制程向14纳米甚至7纳米的迈进,其对电子气体的纯度要求越来越高。为此,黎明院借助科技重大专项平台,突破产物合成、精制提纯、杂物分析、洁净充装等关键技术,攻克了高纯度四氟化碳和六氟化硫制备过程中微量杂质的纯化、分析等技术难题,制备出5.8N四氟化碳和5.5N六氟化硫,部分杂质含量在0.1ppm以内。在研发过程中,并建成了标准化洁净间。


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四氟化碳,又称为四氟甲烷。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲烷、全氟化碳,也可以被视为一种无机化合物。所以在电子行业中制作线路板蚀刻过程中,需要使用四氟化碳。在蚀刻过程中,用四氟化碳将多余的铜皮腐蚀掉,附有油墨的电路上铜皮得以保留,之后再用四氟化碳进行清洗电路上的油墨再烘干,等工艺。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于化学稳定性极强,CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。四氟化碳的溶氧性很好,因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功,在275米到366米的深度内,小白鼠仍可安全脱险。

    四氟化碳在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体,挥发性较高,是稳定的有机化合物之一,不易溶于水。四氟化碳无毒,但是燃烧后会产生有毒物质。四氟化碳是不燃烧的无色、无味的压缩气体,充装于四氟化碳钢瓶中,饱和蒸汽压约压力2000psig。四氟化碳是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。 四氟化碳不与铜、镍、钨、钼反应。

电子特气:半导体工业的关键原料,电子特气是电子工业的关键原料,属于工业气体的重要分支。工业气体是现代工业的基础原材料,而电子特气是工业气体中附加值较高的品种,与传统工业气体的区别在于纯度更高(如高纯气体)或者具有特殊用途(如参与化学反应),是极大规模集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、太阳能电池、光纤等电子工业生产中不可或缺的基础和支撑性材料之一,相关下游领域的快速发展将带动未来特种气体的增量需求。 四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体,挥发性较高。上海优良四氟化碳质量代理商

供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。无锡原装四氟化碳优化价格

对于混合气而言,配比的精度是参数,随着产品组分的增加、配制精度的上升,客户常要求气体供应商能够对多种ppm(partpermillion,百万分之)乃至ppb(partperbillion,十亿分之)级浓度的气体组分进行精细操作,其配制过程的难度与复杂程度也增大。此外,气瓶处理、气体分析检测、气体配送等环节亦对生产企业提出了较高的技术要求作为关键性材料,特种气体的产品质量对下游产业的正常生产影响巨大。如果晶圆加工环节所使用的气体发生质量问题,将导致整条生产线产品报废,造成巨额损失无锡原装四氟化碳优化价格

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