海南废水处理原材料十二烷基苯磺酸钠(LAS)供应

CH3(CH2）7CH=CH--(CH2）7—C—OCH2SO3Na。商品名为伊捷邦f（1geponT又称FX洗涤剂，胰加漂T，***皂，洗涤***，209洗涤剂）的阴离子表面活性剂的典型**物是N—油酰基N-甲基牛磺酸钠，其分子式为CH3(CH2）7CH-=CH(CH2）7C-CH2CH2SO3N。IgeponA是由羟乙基磺酸钠与脂肪酸或脂肪酰氯反应生成的：R一C—Cl+HOCH2CH2—SO3Na——>OCH2CH2SO3Na+HCl其通式为R1—C--OR2S03M。IgeponT是由N—甲基牛磺酸钠与脂肪酸或脂肪酰氯反应生成的：R—C—c1+HN一CH2CH2S03Na—>Rc—CH2CH2SO3Na+HCl通式为R1c—N—R3SO3M当改变通式中R1、R2、R3、M四个可变因素时，表面活性剂的乳化、泡沫、润湿、洗涤性能会发生相应改变。用发烟硫酸磺化、白灰中和（在2倍量乙醇中进行），得到十二烷基苯磺酸钙。海南废水处理原材料十二烷基苯磺酸钠(LAS)供应

阴离子聚丙烯酰胺（APAM）用于生活污水和有机废水的处理，本产品在酸性或碱性介质中均呈现阳电性，这样对污水中悬浮颗粒带阴电荷的污水进行絮凝沉淀，澄清很有效。如生产粮食酒精废水，造纸废水，城市污水处理厂的废水，啤酒废水，味精厂废水，制糖废水，有机含量高废水、饲料废水，纺织印染废水等，用阳离子聚丙烯酰胺要比用阴离子、非离子聚丙烯酰胺或无机盐类效果要高数倍或数十倍，因为这类废水普遍带阴电荷。用于以江河水作水源的自来水的处理絮凝剂，用量少，效果好，成本低，特别是和无机絮凝剂复合使用效果更好，它将成为治长江、黄河及其它流域的自来水厂的高效絮凝剂。广西十二烷基苯磺酸钠(LAS)乳化剂原料LAS能与强酸建立平衡体系.

烷基碳原子一般为C14～C18，以C15～C16去污能力强。其去污能力与直链烷基苯磺酸（LAS）相似，发泡力稍低，是配制重垢液体洗涤剂的主要原料。它的毒性和对皮肤的刺激性都比iLAS低，生物降解性好。使用时常与醇醚硫酸（AES），α—烯基磺酸盐（AOS）复配，以弥补SAS在硬水中泡沫性差的缺点。可做个人卫生盥洗制品、各种洗衣物以及硬表面清洗剂。α—磺基单羧酸及其衍生物(MES)是它们的结构式为CH2一COOR，(R为长链烃基或金属离子）。

十二烷基苯磺酸钠是中性的，对水硬度较敏感，不易氧化，起泡力强，去污力高，易与各种助剂复配，成本较低，合成工艺成熟，应用领域***，是非常出色的阴离子表面活性剂。十二烷基苯磺酸纳对颗粒污垢，蛋白污垢和油性污垢有***的去污效果，对天然纤维上颗粒污垢的洗涤作用尤佳，去污力随洗涤温度的升高而增强，对蛋白污垢的作用高于非离子表面活性剂，且泡沫丰富。但十二烷基苯磺酸钠存在两个缺点，一是耐硬水较差，去污性能可随水的硬度而降低，因此以其为主活性剂的洗涤剂必须与适量螯合剂配用。二是脱脂力较强，手洗时对皮肤有一定的刺激性，洗后衣服手感较差，宜用阳离子表面活性剂作柔软剂漂洗。近年来为了获得更好的综合洗涤效果，十二烷基苯磺酸钠常与脂肪醇聚氧乙烯醚（AEO）等非离子表面活性剂复配使用。十二烷基苯磺酸钠**主要用途是配制各种类型的液体、粉状、粒状洗涤剂，擦净剂和清洁剂等。[4]非常出色的阴离子表面活性剂。烷基苯磺酸钠对颗粒污垢，蛋白污垢和油性污垢有***的去污。

用途:烷基苯磺酸钠是中性的，对水硬度较敏感易氧化，起泡力强，去污力高，易与各种助剂复配，成本较低，合成工艺成熟，应用领域较广，是非常出色的阴离子表面活性剂。烷基苯磺酸钠对颗粒污垢，蛋白污垢和油性污垢有明显的去污效果，对天然纤维上颗粒污垢的洗涤作用尤佳，去污力随洗涤温度的升高而增强，对蛋白污垢的作用高于非离子表面活性剂，且泡沫丰富。但烷基苯磺酸钠存在两个缺点，一是耐硬水较差，去污性能可随水的硬度而降低，因此以其为主活性剂的洗涤剂必须与适量螯合剂配用。如普通（无磷）洗衣粉，浓缩（无磷）洗衣粉，固体洗涤剂，浆状洗涤剂，膏状洗涤剂。青海批发十二烷基苯磺酸钠(LAS)化学反应

十二烷基苯磺酸纳对颗粒污垢，蛋白污垢和油性污垢有的去污效果，对天然纤维上颗粒污垢的洗涤作用尤佳.海南废水处理原材料十二烷基苯磺酸钠(LAS)供应

烷基苯磺酸钠(LAS或ABS)烷基苯磺酸钠通常是一种黄色油状液体，通式为CnH2n+1HC6H4SO3Na，其疏水基为烷基苯基，亲水基为磺酸基。其早期产品为四聚丙烯苯磺酸钠（ABS），曲于烷基部分带有支链，所以生物降解性差，60年代各国相继改为生产以正构烷烃为原料的直链烷基苯磺酸钠（LAS）。烷基苯磺酸盐不是纯化合物；烷基组成部分不完全相同，因此烷基苯磺酸盐性质受烷基部分碳原子数、烷基链支化度、苯环在烷基链的位置、磺酸基在苯环上的位置及数目以及磺酸盐反离子种类影响而发生很大变化。海南废水处理原材料十二烷基苯磺酸钠(LAS)供应

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